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光刻胶
- 品牌:美国MicroChem
- 型号: LOR
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 香港电子器材有限公司 更新时间:2024-04-26 09:18:44
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企业性质授权代理商
入驻年限第7年
营业执照已审核
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联系方式:刘小姐021-63813293
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- 详细介绍
LOR
双层Lift-off专用光刻胶。
高分辨,可用于<0.25μm lift-off 工艺
适合剥离金属厚度<20nm - >5μm.
undercut 结构可控,溶解速率易于调节
在Si, NiFe, GaAs, InP和其它III-V材料上有良好的粘附力.
与g-, h-, i-line, DUV, 193nm和E-beam光刻胶等兼容.
良好的耐热稳定性