仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册 登录
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-产品库- 视频

产品中心

当前位置:仪器网>产品中心> 智能工业自动化>其它>光刻胶>光刻胶
收藏  

光刻胶

立即扫码咨询

联系方式:021-63813293

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!

扫    码    分   享
为您推荐

详细介绍

产品介绍:

LOR
双层Lift-off专用光刻胶

高分辨,可用于<0.25μm lift-off 工艺
适合剥离金属厚度<20nm - >5μm.
undercut 结构可控,溶解速率易于调节
在Si, NiFe, GaAs, InP和其它III-V材料上有良好的粘附力.
与g-, h-, i-line, DUV, 193nm和E-beam光刻胶等兼容.
良好的耐热稳定性

厂商推荐产品

在线留言

换一张?
取消