半导体测试探针台:KUP007,EMP100C,EMP100B,EMP50S
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半导体测试探针台:KUP007,EMP100C,EMP100B,EMP50S
德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
半导体测试探针台:KUP007,EMP100C,EMP100B,EMP50S
Model::KUP007
特点:
* x y z 15 mm-19mm-19mm
*分辨率:5微米
*线性运动

磁铁底座/off-control(选项)
探索倾向
提示夹螺丝

同轴刀头固定螺钉
同轴端座管
三轴端固定螺钉
三轴端托管
(低泄漏电流<100fA)
射频臂(W/E或N/S)

8寸雷射修补变温(负)探针量测系统

高温高湿真空气体照光Bending 可靠度量系统:


低成本探针台:

4英寸探针台:

EMP100C EMP100B
C 型探针台 Model:EMP50S

测量解决方案系统

EMP100C 探针台

报价:面议
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已咨询26次ELISA
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已咨询238次锂电池实验室仪器
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报价:面议
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报价:面议
已咨询243次探针台
报价:面议
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。