M160科研级3D打印系统
ixion 193 SLM 准分子激光器
ixion 193 SLM 准分子激光器
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统
nanoArch M160 科研级3D打印系统
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch M160是科研级3D打印系统，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4D打印等方面。
nanoARCH M160系统性能 | |
性能参数 | nano Arch M160产品规格 |
光源 | UV-LED(405nm) |
打印材料 | 光敏树脂 |
光学精度 | 50μm |
XY打印精度 | 50-200μm |
打印层厚 | 20-50μm |
打印样品尺寸 | 96mm(L)x54mm(W)x50mm(H) |
多材料打印 | 支持4种不同材料进行层间或层内多材料打印 |
打印件格式 | STL |
系统外形尺寸 | 1000(L)x700(W)x1600(H)mm³ |
重量 | 300kg |
电气要求 | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW |
注：样品高度典型2mm,zui高10mm | |
打印材料：
。硬性树脂（R-160-50系列）
。柔性树脂（S-160-50 系列）
。韧性树脂（T-160-50 系列）
。生物医疗树脂（B-160-50 系列）
系统特性：
。独特的供料系统和涂层技术
。具有高精度微尺度多材料的打印能力
。光学监控系统，自动对焦功能
。优良的光源稳定性
。完善的配套设备及组件
报价：面议
已咨询1507次nanoArch
报价：面议
已咨询3943次CERES 亚微米级3D金属打印
报价：面议
已咨询194次意大利贝杰BG挤出复合机械
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已咨询3306次实验室基础仪器
报价：面议
已咨询419次科研级相机
报价：面议
已咨询3298次拉曼光谱仪
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
营业执照已审核
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沪公网安备 31011502008050号