德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
EDA 407
专为光电子器件的质量控制而设计
■ 从密封封装中进行精确气体分析
■ 气体成分的直观分析
■ 简明易用的软件套件
■ 全自动化的气体进样系统

性 能
分辨率
EDA 407 QMS 采用 市场上独 一 无 二 的全数字电子系统,确保卓 越性能,有效减少常见的 零爆发效应,并能够清晰地区分 氢气信号与背景噪声
在四极杆质谱仪(QMS)中,质量分辨率 是最重要的性能指标之一。它决定了质谱仪在特定应用或测量任务中的能力。EDA 407 在这一方面提供了行业领先的分析性能,其 m/z 28 处的分辨率可达 280。
图3显示了氮气信号强度如何随峰全宽半高(FWHM)变化的趋势。可以清楚地看到,即使在远低于 0.7 u 单位分辨率的参数设置下,EDA 407 仍然能够获得清晰的峰形,保证高精度分析。

分析参数


应用领域

报价:面议
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报价:¥159999
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。