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PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD

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详细介绍

PICOSUN  高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD

技术参数
  。基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距)
  。200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)

工艺温度 :50 - 500 °C

基片传送选件:。 气动升降(手动加载)
         。半自动装载,用线性装载器实现
         。52片晶圆盒式全自动装载,用真空批量Load lock实现

前驱体:  。液态,固态,气态,臭氧源
       。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
       。4根独立源管线,最多加载6个前驱体源

重量 :400 + 300 kg

尺寸: (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件 :PICOFLOW™ 扩散增强,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。

验收标准 :标准设备验收标准为 Al2O3 工艺



产品优势
PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距),200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)
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