Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统
德国Raith CHIPSCANNER 电子束光刻机
德国Raith ELPHY 纳米光刻和纳米加工途径
德国Raith 电子束光刻机
德国Raith eLINE Plus 电子束光刻机
德国Raith VOYAGER 完全自动化高性能电子束光刻机

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VOYAGER高度自动化,无需人工用户干预即可处理所有系统调整和校准。它 culminates in the autonomous human‑machine interfaceErgoFlow,这可以实现最 高效率,并且还允许任何用户访问专业的电子束光刻——无论其专业水平如何。
所有这些再加上环境耐受性屏蔽、低拥有成本以及机载SEM和测量功能,使 VOYAGER 成为效率和人机工程学至关重要的系统中的首 选系统。

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已咨询1231次日本Elionix
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已咨询1543次德国 Zeiss Sigma
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。