Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统
德国Raith CHIPSCANNER 电子束光刻机
德国Raith ELPHY 纳米光刻和纳米加工途径
德国Raith 电子束光刻机
德国Raith eLINE Plus 电子束光刻机
德国Raith CHIPSCANNER 电子束光刻机

工艺控制与设计验证解决方案
纳米技术的发展和生产需要在纳米精度级别上进行良好表征、稳定的器件加工。CHIPSCANNER能够以纳米分辨率扫描cm2尺寸的芯片区域,并为3D分析提供出色的层间精度。
凭借高分辨率电子光学、多种高效电子探测器以及超精密激光干涉仪平台技术的独特组合,CHIPSCANNER不仅能够提供超高精度的大面积SEM图像,还为各种工艺控制应用提供了基础。化合物半导体晶圆厂、FA实验室和多用户设施都受益于该系统集成的计量、检测和设计验证功能。
可配置的平台允许您根据需求和环境量身定制系统。包括高度传感和工作管理软件等高级功能支持在实验室和晶圆厂中实现全自动测量。CHIPSCANNER提供的自动化和灵活性使其成为具有最 佳成像性能的最 通用工艺控制系统。

报价:面议
已咨询80次德国 Raith
报价:面议
已咨询102次德国 Raith
报价:面议
已咨询73次德国 Raith
报价:面议
已咨询105次光刻机/3D打印机/电子束直写仪
报价:面议
已咨询72次德国 Raith
报价:面议
已咨询87次德国 Raith
报价:面议
已咨询112次德国 Raith
报价:面议
已咨询2889次英国 Nanobean
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。