ixion 193 SLM 准分子激光器
ixion 193 SLM 准分子激光器
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统
德国Raith CHIPSCANNER 电子束光刻机
德国Raith EBPG PLUS电子束光刻机

精密、通量与自动化方面具有额外优势的光刻技术。
新的EBPG系列系统是多年系统发展的最 新进展。EBPG Plus系统在工业化合物半导体制造中已得到广泛应用,并且是世界顶 尖大学和纳米技术研究卓 越中心的系统首 选。
通过协调吞吐量、稳定性、保真度和精度,EBPG Plus确保所有性能参数之间完 美交互,以提供最 佳的纳米光刻结果。
高效的数据处理以及对曝光序列适应设计几何特性的多种选项,使得纳米结构具有最 高的图案保真度。
硬件和软件设计旨在支持最 具挑战性的应用,同时支持在真正的多用户环境下稳定且便捷的系统操作。

报价:面议
已咨询106次光刻机/3D打印机/电子束直写仪
报价:面议
已咨询73次德国 Raith
报价:面议
已咨询102次德国 Raith
报价:面议
已咨询73次德国 Raith
报价:面议
已咨询80次德国 Raith
报价:面议
已咨询87次德国 Raith
报价:面议
已咨询113次德国 Raith
报价:面议
已咨询2889次英国 Nanobean
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。