-
-
Etchlab200 德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级)
- 品牌:德国Sentech
- 型号: Etchlab200
- 产地:德国
- 供应商报价: 面议
- 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 更新时间:2024-04-24 09:08:30
-
企业性质生产商
入驻年限第6年
营业执照已审核
- 同类产品德国 Sentech(18件)
联系方式:廖敬强0755-81776600
联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!
-
为您推荐
- 详细介绍
经济型刻蚀机应用范围:硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料。直接装片型、可升级、在线监控、大尺寸观察窗、远程操作。
Cost-effectiveness 经济实惠
反应离子刻蚀机 Etchlab 200采用直接装片的平行板式等离子源设计。
Upgradeability 升级能力
Etchlab 200可方便升级,包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。
SENTECH control software SENTECH控制软件
控制软件包括模拟用户界面,参数窗口,工艺程序编辑器,数据记录和用户管理。
Etchlab 200 RIE 刻蚀机是直接装载晶圆片等离子刻蚀设备,兼有平行板电极的优势。
Etchlab 200可以简单快速的装载直径200或300mm的晶圆片到载片盘或电极上,具有灵活、模块化和小型化的设计特点。上电极顶部有大尺寸观察诊断窗口,同时反应器能方便的容纳SENTECH激光干涉仪或者OES、RGA系统。
可以使用SENTECH椭偏仪通过专用的椭偏仪端口进行在线工艺监控。
Etchlab 200适用于可以直接装载的晶圆片刻蚀,包括硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料。
Etchlab 200可以通过SENTECH控制软件界面进行远程操作。- 产品优势
- Etchlab200 德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级),经济型刻蚀机应用范围:硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料。直接装片型、可升级、在线监控、大尺寸观察窗、远程操作。
- 英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE
- Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备
- Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80
- 英国 SPTS深硅刻蚀机/等离子刻蚀机
- 德国SENTECH ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机
- 美国 那诺-马斯特 NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
- CIONE系列Mini 等离子反应离子刻蚀机
- 等离子刻蚀ICP
- 反应离子刻蚀系统
- 等离子刻蚀机 NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特
- 刻蚀设备 NDR-4000(A)全自动DRIE深反应离子刻蚀 那诺-马斯特
- 刻蚀设备 NRE-3500(A)全自动反应离子刻蚀机 那诺-马斯特