供应商：香港电子器材有限公司

反应式离子蚀刻机 性能特点 Capability Features: 用于失效分析的剥层分析解决方案群，世界反应式离子蚀刻机，物理沉移系统，原子层化学气相沉积系统. RIE/PE and RIE-ICP FA system 这些灵活的失效分析工具可以实现从钝化层的去除到各项异性的氧化物的去除，从小管芯或已封装的器件到300mm直径的晶片整个范围的工艺. 去除氮化物钝化层后刻蚀金属间介质后四层金属暴露 金属间介质后的失效分析

供应商：北京英格海德分析技术有限公司

仪器简介：ESPion高级朗缪尔探针（AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation）可快速、可靠、精确地进行等离子体诊断，是zuixianjin可靠的朗缪尔探针（LangmuirProbe）。 技术参数：应用： 蚀刻/沉积/ 清洁等离子体 脉冲等离子体操作 离子密度 (Ni & Gi) 电子温度(Te) 电子能量分布(E

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

Diener电镜专用等离子清洗机用途： 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面，不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数：1. 可对多孔碳膜进行高效且无破坏的清洗，提高样品在低电压下的成像能力，在化学微量分析时提高其精度2. 无油真空系统：泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成，在保证真空度的同时，可在两分钟之内达到抽真空

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Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机/等离子表面处理PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications:RubberElectronicPlasticsCables-Tules效果： PlasmaBeam清洗过的区域，喷水后没有残留水滴。底材：铝底材：塑料技术参数：型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,6

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Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机/等离子表面处理PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications:RubberElectronicPlasticsCables-Tules效果： PlasmaBeam清洗过的区域，喷水后没有残留水滴。底材：铝底材：塑料技术参数：型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz

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Diener electronic 公司世界首chuangDiener electronic 公司推出了第一台适合牙科种植专家和牙科技师使用的低压等离子系统。牙科技术现在还没有粘合促进剂或者底漆仅在原子水平上进行清洗、活化、蚀刻和涂层。用 FEMTO-PCCE-系统直接在实验室中进行等离子体预处理是极为有效和环保的。等离子体技术被认为是极为环保的，而且成本较低，适合用来替代化学粘合促进剂，其某些工艺对于牙科技术部件的预处理而言是至关重要的。表面蚀刻作为所有粘合剂和复合面的**保留基层，具有极好的润湿性，而

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Diener等离子表面处理设备 德国原装进口德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术**者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用zuixianjin技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

Technische Daten PlasmaBeamMini1.外尺寸： B 350 mm, H 166 mm, T 300 mm, 重量. 10 kg2. 喷头直径.φ25 mm, L 150 mm, 重量. 0.5 kg,线缆 1.5 m3. 发生器：2,45 GHz/8 W4.反应气体：单路Ar 5. 电源：单相100~240V，1.5A 上海尔迪仪器科技有限公司 ZGdu家代理

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

德国diener等离子表面处理设备特点： 等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。 对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求。 等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。 射频功率无极连续可调。 GX的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。 特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率zuida化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。 特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。 设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。

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聚对二甲苯是聚对二甲苯聚合物基团的简称。聚合物由被不同物质取代的对二甲苯组成。涂层的基础是二聚体。这是由两个相同的亚基，即所谓的单体组成的分子复合物。

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Diener等离子表面处理设备 德国原装进口德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术**者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用zuixianjin技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等

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Diener Tetra185 Plasma PCB DesmearingPCB等离子除胶机 Diener Tetra185接受不同规格舱体及工艺定制循环时间为15分钟和90分钟之间同时可以处理7块PCB板,处理最大尺寸为510×610mm 应用领域：- 除污杂材料- 聚酰亚胺箔加压前的蚀刻与活化，以便它能够提高粘接强度- 表面清洁- 金属表面粘接和焊接前的活化 去除胶渣的材料类型：- FR4standard (for example Panasonic MC-100MS/EX)-Modified F

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反应式离子蚀刻机 性能特点 Capability Features: 用于失效分析的剥层分析解决方案群，世界反应式离子蚀刻机，物理沉移系统，原子层化学气相沉积系统. RIE/PE and RIE-ICP FA system 这些灵活的失效分析工具可以实现从钝化层的去除到各项异性的氧化物的去除，从小管芯或已封装的器件到300mm直径的晶片整个范围的工艺. 去除氮化物钝化层后刻蚀金属间介质后四层金属暴露 金属间介质后的失效分析

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

Femto Science等离子清洗机COVANCE产品特点及适用领域：1、可有效去除工作表面上的有机污染物，也可用于表面改性。“易于使用”，具有简单的结构，适用于各种等离子工艺，如清洁，增强亲水性和粘合性， 使表面疏水等。2、纳米生物科学与医疗仪器3、实验室芯片研究4、氨基等离子体嫁接 5、葡萄糖传感器，蛋白质芯片...6、粘接PDMS，清洁眼镜7、亲水/疏水塑料8、微量血浆，酶反应前的预处理...9、洗有机污染物 10、涂装和涂漆前的活化11、硅粘合前活化12、棉的疏水处理13、增强粘合性，增强功能.

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

Femto Science等离子清洗枪      等离子清洗枪是一种全新的高科等离子表面处理仪，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果、或者进行表面改性及灭菌，还可以应用于伤口、组织器官、3D图案等。相对于等离子清洗机不仅使用广泛，而且具有小巧轻便、使用便捷、价格低廉的特点。技术规格材料：塑料，金属（内部）电源：DC 5V(2A)容量：1800mAh充电时间：2h时长：40min气体：Ar气体导管：OD.4mm管尺寸：52(W) x 76(D) x 270(H) m

供应商：北京欧屹科技有限公司

NDS UV解胶机NDS312 UV解胶机NDS UV解胶机简介：UV解胶机适合6/8/12寸芯片整片照射使用，主体部分为不锈钢、铝合金制作，质量可靠，性能稳定;贴膜精度高且稳定；操作简单，易懂易会。NDS UV解胶机特点：1)小巧的桌面式设计2)采用液晶触摸屏一键式全自动完成解胶过程3)LED冷光源代替了传统的高压汞灯,结果试验认证,4)使用寿命比普通汞灯寿命长10倍以上5)LED冷光源与汞灯组成的光源相比,更能实现稳定性,均匀性的照射6)LED冷光源安全性高,热量小,功耗低7)设备开门关门时,LED冷

供应商：上海巨纳科技有限公司

国内的电感耦合等离子体都是基于中频13.56MHz的电源发生器，等离子体密度较低，而且是螺旋管式，主要用于等离子体刻蚀，不适宜用于沉积高质量薄膜。巨纳集团NextCVD系列多功能宽密度等离子体CVD（ICP-LP-PE-CVD）结合了电感耦合和电容耦合辉光放电的优点，可在宽密度工艺范围（109-1013 cm-3)实现稳定的等离子体辅助CVD，具有优良的材料处理性能和广泛的应用范围，是目前全球功能大的等离子体CVD系统。NextCVD 的原创性高密度低频平板式电感耦合等离子体系统在国内duyi无二。频率可

供应商：科睿设备有限公司

※ 应用于合成纤维、天然织物、复合材料、电子组件、玻璃 钢、铝合金金属、塑料、玻璃、木材、陶瓷和粉末等材料 领域。实现表面活化表面能、印刷和胶粘、杀菌和消毒等 功能。 ※ 等离子功率密度高。 ※ 产生<50°C冷等离子体。 ※ 直接放电，低输入电压，高输出电压。 ※ 手持操作。 ※ 适用于几乎所有材料。

供应商：科睿设备有限公司

简单易用的等离子体——“MyPL”

供应商：科睿设备有限公司

机器人工业化设计中使用的wan美定制单元：10米线便可轻松集成至各种系统中的PS2000高压单元和PB3等离子体发生器。

供应商：科睿设备有限公司

基于压电变压器直接放电，同时在元件的输出端直接产生冷等离子，等离子通过电离空气或气体来形成。

供应商：科睿设备有限公司

基于压电变压器直接放电，同时在元件的输出端直接产生冷等离子，等离子通过电离空气或气体来形成。

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS1050 低温灰化仪应用领域：l  生物芯片领域l  医用材料、光学材料研究l  电子半导体领域l  高分子材料研究l  电化学、高端零部件处理l  有机材料的灰化、刻蚀 仪器性能：l  自动调频高频发生器l  内置旋转真空泵l  此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀l  低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts RF) l 

供应商：上海巨纳科技有限公司

电感耦合等离子体系统可以产生高密度（1012~1013 cm-3）的电感耦合等离子体，可以施加频率从0.5~13.56 MHz（低频到中频）的射频电源，外加功率变化范围是0~5000W。主要用于等离子体辅助化学气相沉积（CVD）、薄膜制备与处理、表面改性、刻蚀与晶片清洗等。电感耦合等离子体系统MPDEX21/21-2主要由以下几个部分组成(1)平板式电感耦合等离子体源结合电源发生器和射频匹配网络可以产生高密度（1012~1013cm-3）的电感耦合等离子体，可以施加频率从0.4~13.56 MHz（低频到

供应商：合肥科晶材料技术有限公司

产品型号：GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪 产品简介：GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下，迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层，预先进行表面处理可以得到显著的效果。 主要特点： 操作简单、安全，高速处理物件表面； 不需要真空、不需要腔室； 手提式、可以现场使

供应商：北京亚科晨旭科技有限公司

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm Oxidator 150 经过专业的研发, 能够满足 SiC 圆片的高温氧化工艺; 同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 卓越的反应腔具有性能高、占地小和生产成本低等特点，为客户提供zui高的工艺灵活度, 同时能够保证有毒气体的安全使用。

供应商：北京亚科晨旭科技有限公司

Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm独特工艺炉管和加热系统设，允许工艺温度达到 1850 ℃。 此外，Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。

供应商：北京亚科晨旭科技有限公司

CAM-H型流延机为KEKO公司面向最高端产品应用的流延机。先进的干燥系统设计使得该设备非常适合厚膜产品。安装有众多的温度及空气流量传感器用于工艺控制。使用±10um的高精度厚度测量系统对流延厚度进行不间断监测。全自动的流延缝隙控制可自动进行零位校准操作。流延过程在触摸屏或外置电脑上显示。预设的菜单系统可迅速启动新的流延操作。

供应商：北京亚科晨旭科技有限公司

Trymax 先进等离子灰化和蚀刻 NEO300A/NEO200A系列平台 NEO300A系列平台是Trymax半导体设备行业领先的NEO系列先进等离子灰化和蚀刻产品的zui新成员之一。 它是一个全自动的单室系统，可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块，并与直径达300mm的基板兼容。占地面积小的NEO300A配置有单个装载端口。

供应商：北京亚科晨旭科技有限公司

NEO3400系列是Trymax半导体设备行业-NEO系列先进等离子灰化和蚀刻产品的zui新成员之一。 它可以满足zui高产量，适应每个生产阶段和预算。 NEO 3000系统可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块，并与直径达300mm的基板兼容。小尺寸和模块化设计可根据您的需要灵活配置。

供应商：北京亚科晨旭科技有限公司

Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择，目前已有上百台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。

供应商：广州善准科技有限公司

善准科技等离子体表面处理仪VP-R10真空腔体石英材质，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

供应商：广州善准科技有限公司

善准科技等离子去胶机VP-RS6真空腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

供应商：广州善准科技有限公司

VP-RS15等离子刻蚀机补充国内技术空白（真空不锈钢腔体等离子清洗装置），真空腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

供应商：伯东企业（上海）有限公司

Europlasma CD600PLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度40℃以下.材料: 铝尺寸: 600x600x600mm容积: 216升托盘: 5个可根据处理材料设定不同的处理工艺参数CD600PLC 低压等离子表面处理设备 技术参数：若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请联络上海伯东罗先生伯东版权所有, 翻拷必究!