离子束刻蚀系统

NIE-4000IBE离子束刻蚀系统：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内。

是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。

IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统： NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统 NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统

IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统： NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统 NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统 NANO-MASTER那诺-马斯特的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性，可根据不同的应用而按不同的配置进行建构

NIE-4000 离子束刻蚀系统，NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统，通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。