Nanoscribe Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统

产品介绍：

3D微纳加工技术应用于集成光子学领域

双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。

预构图复杂光学结构的微纳加工应用

例如，可以应用于将自由曲面微纳光学组件直接打印到芯片上，从而连接多根光纤到一个芯片上。为了达到这个目的，必须将光收集起来，平行于芯片表面重新定向然后传输到窄波导中。而Nanoscribe公司基于双光子聚合原理的无掩模光刻系统拥有高设计自由度的特点，可以够轻松实现收集光束并传输到波导中。系统配备的高分辨率处理镜头和打印系统的编程接口可以实现耦合结构与波导的自动对准，且对准精度可达到100 nm。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统可适用于科研和工业领域应用。我们的客户成功将微纳光学结构直接打印到光子组件上从而实现从边缘到表面的全面耦合。而全新的双光子灰度光刻系统Quantum X则可以应用于光子封装技术。更多应用相关科研项目请点击MiLiQuant 和 HandheldOCT.

3D微纳加工创新科技

集成光子学领域应用

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