供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国 OAI 光刻机:Model  200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model  2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model  5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器，需要最小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴

供应商：QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

供应商：香港壘為信息科技實業有限公司

Perfect Low-Cost Solution: •   High Accuracy •   Good Optical performance•   latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: •   MEMS •   Telecommunica

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μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA   技术参数直写模式 I*直写模式 II*写入性能（光栅扫描和矢量曝光模式）最小结构尺寸 [μm]0.61最小线宽/线隙 [半宽, μm]0.81.5第二层对准大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]500500第二层对准大于  50 x 50 mm2&n

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I线步进式光刻机 / I-line stepper，型号：Nikon NSR-I12技术指标及功能广泛应用于生产线，是6英寸，8英寸等主力I线生产机台，适用于I线光刻胶的曝光，操作简单，曝光精度准，解析力zui高可达0.35UM （350NM）

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把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。基本指标1. RESOLUTION：0.5μm2. LENS DISTORTION：≤0.9μm3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm 5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X,Y)

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提高分辨率 25%； 更佳的贴片性能 70%； 更快的写入速度20% 。

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大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术

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多种数据输入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL) 网络数据传输 计量校准系统 人工气候室 阶段地图校正 边缘检测器单元 色差校正

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SUSS苏斯，EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目前得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。

供应商：QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

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尼康光刻机 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步进式投影光刻机，NSR 204,NSR 204B, NSR 1505 G6E.

供应商：纳糯三维科技（上海）有限公司

Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术，该系统不仅是快速成型制作的最佳机型，同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。全新Quantum X shape可以为您打印任何 2.5D 和 3D 微纳结构，提供真正意义上的设计自由度。该系统可实现您各类高纵横比结构。

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德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高 效数位光刻与灰度光刻.

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德国海德堡 μMLA桌面无掩模光刻机

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海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200，VPG+400 大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术 大型光学系统上的创新与突破

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瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻机，使多功能光掩模制造，具有无与伦比的灵活性。

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美国 OAI 光刻机:Model  200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model  2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model  5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器，需要最小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴

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美国 OAI 光刻机:Model  200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model  2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model  5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器，需要最小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴

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适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电路工艺器件量产的G-line步进式光刻机。

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· zuixin的创新性Prexision平台具备优异的极ng准度与可重复性 · 用我们的ZL技术改善配准测量。 · 因为第 一次测量的结果精确无误，这大大给您节省了周转时间。 · 充分发挥我们的Prexision光刻机的潜力。

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PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

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德国高精密激光直写绘图机 非接触式曝光 可支持GX数位光刻与灰度光刻

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基本灰度曝光模式 对准摄像系统 实时自动对焦 User-optimized接触向导

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VPG 设计有可以搭载多样化不同尺寸的承载平台，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但这些系统都安装有气浮装置，可配置半自动或者全自动的上下版装置，并且可以选择zui高输出功率20W的UV激光发射头。

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搭配海德堡的精密软件控制可以让您在大面积范围中，也可以瞄写2维和3维图形的DWL 8000系列，是针对微光学领域的2维和3维的微构造形式所制作。 对于激光图形生成器，MEMS，Displays 和sensors 都有加宽，加高的设计。DWL 8000精确的温度控制，动态的焦点追踪，closed loop位置决定，确保wan美布置和完全覆盖性的直写范围。 DWL 8000多年的经验累积，使Gray Scale曝光技术，可以更有效率于更小的系统上直写更大的区域范围。在使用高分辨率技术掩模板上，使用曝光强度经过调整的激光，可在连续表面上形成1个复杂的3维样式。

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科研用激光直写系统 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求 能于结构上进行灰度曝光

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DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光

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Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i

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NIKON步进式投影光刻机,分辨率:0.35μm， 套刻精度:< 75nm, 十字线对准:5:1 ， 150毫米* 150毫米

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Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重复光刻机，可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。

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Nikon NSR-1755G7适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电路工艺器件量产的G-line步进式光刻机。

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Nikon NSR-I12广泛应用于生产线，是6英寸，8英寸等主力I线生产机台，适用于I线光刻胶的曝光，操作简单，曝光精度准，解析力最高可达0.35UM （350NM）

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Nikon步进式光刻机，广泛应用于生产线，操作简单，曝光精度准，解析力最高可达0.35UM （350NM）

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DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光

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美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm