Nanoscribe无掩膜光刻机Quantum X shape

作为同类中超前的3D打印系统Quantum X shape 可打印任何形状，min尺寸可达100nm同时表面粗造度(Ra)小于5nm，max面积可达25 cm

具备自动滴胶模组功能的先进打印系统，过夜效率可达200个特征结构。

通用高性能双光子聚合材料，适用高分子及玻璃打印。

Reshaping precision.

作为已被工业界认可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平台的二代加工系统，Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统在3D微纳加工领域拥有惊人的高精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。

Reshaping output.

Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。

Reshaping usability.

通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。

主要特征：

* 纳米尺度打印：在任意空间方向上的特征尺度控制，可达100nm

* 超快体素控制和100nm处理网格的高速3D微纳加工

* 先进的振镜轨道控制保证的最快扫描速度下的轨迹准确度

* 自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位

* 可达6英寸基片和硅片的广泛选择

* 工业化批量生产： 200个标准介观尺度结构通宵产量

* 保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能

* 快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工作流程

* 工业验证的晶圆级批量生产

* 通用及专用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料