Nanoscribe 具备3D设计自由度的高级微纳光学
Nanoscribe Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统
Nanoscribe 多级衍射光学元件
Nanoscribe 创新折射微纳光学
Nanoscribe 微机械和MEMS
Nanoscribe 具备3D设计自由度的高级微纳光学
产品介绍：
具备3D设计自由度的高级微纳光学
微米级增材制造能够突破传统微纳光学设计的极限，借助双光子聚合技术的优秀性能，可以轻松实现球形，非球形，自由曲面或复杂3D微纳光学元件制作，并具备出色的光学质量表面和形状精度。
进阶增材制造微纳光学
Nanoscribe的高精度3D双光子无掩模光刻系统可以实现几乎任何三维结构的打印制作，并同时具备光学质量表面。这有效规避了机械工具所施加的限制以及减材制造常见的几何或工艺设计局限。可以实现打印单个微透镜，自由曲面光学器件和复合透镜系统等，无需对单个组件进行打印后在组装起来。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上最 高分辨率的3D无掩模光刻技术，用于快速，超高精度的微纳加工，可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以实现芯片和光纤上直接打印。
anoscribe公司的的IP系列光刻胶配合使用并制作高级微纳光学器件。IP-S光敏树脂非常适合打印具有高形状精度，光学质量表面的微纳结构，例如，用IP-S可以满足打印优于1 µm形状精度和小于10 nm Ra 表面粗糙度微透镜阵列。此外，新型IP-n162光敏树脂具有高折射率（1.62）和高阿贝数（25）的特点，其光学性能可与常规用于注塑成型的光学聚合物（例如聚碳酸酯和聚酯等）相媲美。这种材料可以用于微纳光学原型制作，从而避免了耗时昂贵的金刚石研磨注模迭代。
3D微纳加工创新科技
微纳光学领域应用
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高分辨率专利A2PL技术3D打印应用于纳米级精度对准 再光纤和芯片上进行3D打印 纳米级精度3D对准技术 光学级三维打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微纳结构3D打印光刻胶
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有超高形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。
双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
借助我们双光子聚合技术独有的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。
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