Nanoscribe 突破二维局限实现三维微流道结构设计
Nanoscribe 3D微纳加工技术应用于材料工程领域
Nanoscribe 3D微纳加工应用于生命科学领域
Nanoscribe 多功能生物打印系统 Quantum X bio 3D
Nanoscribe双光子三维微纳米激光直写系统 Photonic Professional GT2
3D微纳加工技术应用于材料工程领域
材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案，可以实现具有特定光子，机械，生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。
具有复杂功能设计的3D打印微纳结构
3D微纳加工可以通过结构化来创造具有可定制机械，光子或等离子体反应特性的材料。例如，利用该技术开发的圆形宽带偏振片或中红外波段吸收体等光子晶体或超材料应用。此外，机械超材料也可以通过几何设计自由度来确定损害承受能力，超轻重量以及异常扭转响应等不同机械性能。
Nanoscribe 公司的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统具备易用性和极大设计自由度的特点，可以打印亚微米级尺寸高精度结构，可应用在光子，等离激元，力学超材料和仿生纳米结构及微观结构等（例如，超疏水表面和光子结构色）。
打印材料的选择对于最 终打印微纳结构的质量，功能和性能都起着至关重要的作用。打印材料决定着包括分辨率，表面粗糙度，化学性质，机械或光写性能等最 终质量。Nanoscribe的IP系列光刻胶是针对双光子聚合技术和特定应用量身定制的，例如，具备生物兼容性和低自发荧光性的IP-Visio光刻胶适用于细胞显微镜应用；IP-n162光刻胶具备高折射率（n=1.62）和低吸收率的特点，适用于消色差或红外微纳光学应用。
微纳加工创新科技
材料工程领域应用
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高分辨率专利A2PL技术3D打印应用于纳米级精度对准 再光纤和芯片上进行3D打印 纳米级精度3D对准技术 光学级三维打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微纳结构3D打印光刻胶
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有超高形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。
双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
借助我们双光子聚合技术独有的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。
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