Nanoscribe 突破二维局限实现三维微流道结构设计
Nanoscribe 3D微纳加工技术应用于材料工程领域
Nanoscribe 3D微纳加工应用于生命科学领域
Nanoscribe 多功能生物打印系统 Quantum X bio 3D
Nanoscribe双光子三维微纳米激光直写系统 Photonic Professional GT2
产品介绍：
突破二维局限实现三维微流道结构设计
先进的双光子聚合技术不仅可以制造2D或2.5D微流道结构，还可以在开放甚至密闭的微流道内创建几乎所有3D形状物体。探索Nanoscribe的3D微纳加工解决方案，用于快速原型制作或打印真正的高精度微流道系统。
微流道设备的微通道母版制作和芯片内打印
Nanoscribe公司打印系统的先进3D微纳加工技术可以制作包括喷嘴，过滤器，混合器和毛细管泵等各种2.5D和3D微流道元件，并且达到高精度定制形状和光学质量表面。还可以制作尖锐的微针阵列以控制精 准流量，例如用于靶向药物输送应用。
Nanoscribe 公司的Photonic Professional GT2是市场上最 高分辨率的增材制打印系统，可实现亚微米级别最小特征尺寸。增材制造可以打印2D和2.5D微流道母版，甚至可以在完全密闭的微流道中直接打印复杂的微流体3D结构。
例如，将母版制作和芯片内3D打印相结合，以使微流控芯片中的湿纺工艺最小化：首先，打印出微流控通道系统的母版，然后，通过在打印的通道上浇铸PDMS，制造出通道结构的凹模。通过使用氧气等离子体将PDMS平板粘附到显微镜载玻片上，将其密封，然后在通道中填充光敏树脂，进行芯片内3D打印步骤。使用双光子聚合技术和物镜将激光束聚焦在通道内，即可打印3D微型喷嘴。
3D微纳加工创新科技
微流控领域应用
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高分辨率专利A2PL技术3D打印应用于纳米级精度对准 再光纤和芯片上进行3D打印 纳米级精度3D对准技术 光学级三维打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微纳结构3D打印光刻胶
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有超高形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。
双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
借助我们双光子聚合技术独有的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。
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