Nanoscribe 突破二维局限实现三维微流道结构设计
Nanoscribe 3D微纳加工技术应用于材料工程领域
Nanoscribe 3D微纳加工应用于生命科学领域
Nanoscribe 多功能生物打印系统 Quantum X bio 3D
Nanoscribe双光子三维微纳米激光直写系统 Photonic Professional GT2
Nanoscribe双光子高精度微纳3D打印系统- Photonic Professional GT2
作为德国全进口的3D打印设备,Nanoscribe双光子高精度微纳3D打印系统在保持并优化了基于双光子聚合技术的超高精度3D打印的同时,也从系统本身以及用户界面等各个方面进行了面向客户需求的重新设计。作为全球zui高精度的微纳3D打印系统,该系统的高度自动化,高度易用性的特点使得多个高精尖领域的微纳米精度的3D加工可以轻松的实现,拓展了人类精密加工的应用范围。

产品特性:
* 高速扫描技术进行高速三维微加工,节省打印时间
* 高度3D设计自由度
* 简洁的3D打印工作流程,从CAD模型导入到打印产品仅需简单一步
* 适用于多种尺度和多种应用
* 广泛的基材 - 树脂组合选择
技术参数:
- 打印技术: 双光子光固化
- 三维最小横向特征尺寸:160nm typical ; 200nm specified
- 最大打印体积: 100mm³
- 普通样品最大高度:8mm
- **表面粗糙度: ≤20nm
德国Nanoscribe 在2017年底在上海成立了全资ZG子公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司,加强了德国高新技术在ZG的销售推广。在巩固并扩大了现有业务关系的同时拓展了售后服务范围,更好的为亚太地区客户提供专业技术支持。上海分公司还设有实验室可供参观。
Nanoscribe客户遍布全球30个国家,超过1500名用户。全球排名前十知名大学中已经多所正在使用Nanoscribe3D打印机。这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院等等。在科研领域,Nanoscribe 的系列3D打印设备帮助推动着诸如超材料,微纳机器人,再生医学工程,微纳光学,微流道,微机电系统等等领域的研究和发展。
应用领域:微光学,微型机械,生物医学工程,微流体,MEMS,力学超材料,光子晶体等

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高分辨率专利A2PL技术3D打印应用于纳米级精度对准 再光纤和芯片上进行3D打印 纳米级精度3D对准技术 光学级三维打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微纳结构3D打印光刻胶
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有超高形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。
双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
借助我们双光子聚合技术独有的高设计自由度和高精度特点,您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。