Nanoscribe Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统
Nanoscribe 多级衍射光学元件
Nanoscribe 创新折射微纳光学
Nanoscribe 微机械和MEMS
Nanoscribe 具备3D设计自由度的高级微纳光学
产品介绍：
创新折射微纳光学
高精度的增材制造可打印出尖 端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
增材制造应用于高精度微纳光学制造
单个微纳光学元件，具备高达100%高填充系数的阵列和几乎任意形状，包括球形，非球形甚至是自由曲面光学元件等，都可以通过Nanoscribe公司的快速无掩模工艺直接打印制作，并同时可以达到光学质量表面的要求。
Nanoscribe的全新Quantum X无掩模光刻系统适用于2.5D折射微纳光学元件制作，可以实现几乎任何形状的创新设计，并具备出色的形状精度。得益于Nanoscribe的双光子灰度光刻技术（2GL®），可以根据透镜轮廓调节激光功率，从而单层打印微纳光学器件，更大的透镜制作也可以通过多层打印实现。这种方法大大缩短了打印时间。
2GL应用于尖 端微纳光学制作
折射微光学领域应用
想探索折射微光学领域项目的更多可能性吗？欢迎了解我们3D微纳加工解决方案的不同应用，以及有关折射微光学领域的最 新10篇科学出版物。
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高分辨率专利A2PL技术3D打印应用于纳米级精度对准 再光纤和芯片上进行3D打印 纳米级精度3D对准技术 光学级三维打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微纳结构3D打印光刻胶
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有超高形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。
双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
借助我们双光子聚合技术独有的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。
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