Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备

Nanoscribe第一款工业级高速灰度光刻微纳打印系统 - Quantum X

德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展 LASER World of Photonics上发布了全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统 Quantum X ，并荣获创新奖。该系统是世界No.1基于双光子灰度光刻技术（2GL®）的精密加工微纳米打印系统，可应用于折射和衍射微光学。该系统的面世代表着Nanoscribe已进军现代微加工工业领域。具有全自动化系统的Quantum X无论从外形或者使用体验上都更符合现代工业需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统技术要点

这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到jing准同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。

Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统 - 多种独特智能化解决方案：
·配备自动识别匹配不同物镜，样品架以及树脂的功能，有助于样品制备和硬件配置之间的切换，从而加快整个工作流程。

·配备从始至终的智能软件向导功能，以简化从最初准备到创建打印作业的整个流程。

·配备三个实时监控摄像头可同时监管打印作业并支持直观操作。现在用户可以直接在内置触控屏上随时检查作业状态，控制打印过程并可随时显示和调整打印效果。

技术参数

产地：德国全进口

打印技术：双光子灰度光刻 （2GL)

三维横向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

最小表面粗糙度：≤10nm

激光扫描速度：≤250mm/s

纳糯三维科技（上海）有限公司作为Nanoscribe全资子公司扩大了销售范围，并加强了售后服务支持。