德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+
德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150
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德国海德堡 μMLA桌面无掩模光刻机
海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 800/1100/1400
大尺寸掩膜版生产工具
平行化曝光制程技术
的VPG(Volume Pattern Generator)系列-全球安装已超过50台。自成立以来,随着技术的进步,VPG产能不断得到进一步提升。整体的高速光学调制器有了飞跃性表现-升级后的系列命名为:VPG+。
大光刻面积VPG+:技术的领航
大光刻面积的VPG +维持原VPG系列为根基再进化,使其更加出色。VPG于2007年推出; 是拥有ZG的量产型曝光技术光刻系统,可靠和经济的解决方案,适用于要求严谨的掩膜板制造。
速度更快:超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器,在速度化下,曝光时间可以达到原始VPG的三倍!强化了曝光动能与数据传输路径。
功能和选项:配备性能
VPG +可配置各种平台尺寸,可达1400mmx1400mm。 该系统具有355nm波长的紫外激光源,空气轴承平台,半自动或全自动入料器,用于基板装载和zui先进的温控环境室。
应用:光罩制造和直接写入
大光刻面积的VPG +系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light emitting diodes, touch panel以及life science应用。出色的图像质量和对位功能,也非常适合在大面积执行多层套刻直写。
VPG+ 型的设备VPG+ 1400专门针对显示器相关行业应用:是所有VPG+系列中功能大,具有极其完善的温控环境室,差分干涉仪和先进的mura校正以及面板间距优化功能。
Application
Micro-optics, MEMS, Display, Micro sensor
功能: Function

Substrates up to size of 800 x 800, 1100 x 1100 and 1400 x 1400 mm² respectively Minimum structure size: 0.75µm Address grid down to 12.5nm Ultra-high-speed exposure engine High power DPSS laser with 355nm Multiple write modes Automatic write mode exchanger Metrology and alignment system Climate chamber Online data transfer Automatic loading system Multiple data input formats(DXF, CIF, GDSII, Gerber) Stage map correction Edge detector unit Mura correctio
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步进式光刻 更高的精度 激光主动对焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机,主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。
采用AOD激光操控技术,光斑定位精度优于1nm,高精度套刻对准,结构边缘超平滑,可轻松构建1微米以下线宽结构。 先进的AOD激光操控技术,使得DaLI具有超高的激光定位精度(优于1nm),超长的有效寿命,以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。
创新采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制;采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明;可连续设定分离间隙;采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。