美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机
DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台
DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台
高真空蒸发器平台，Denton 热蒸发溅射仪 DV-502B
SYSKEY紧凑式溅射系统 Compact Sputter
Denton 热蒸发溅射仪DV-502B
DV-502B 高真空蒸发器平台
DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。
全 球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全 球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。
DV-502B系统在大气和高真空之间快速循环。
DENTON 的高真空蒸发器平台
•样本准备
•R & D
•批量生产
•内联生产
•蒸发
•溅射
•PE-CVD
DENTON 的区别
你们的过程就是我们的过程。
我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。
•我们的系统规模可以满足您的生产需求
•我们永远相信客户
•全 球支持网络
在DENTON，我们关心你的成功
•专业安装可用的
•个性化培训可用
•实时支持
•CE / UL / CSA兼容系统
典型的应用
蒸发
•用于TEM和x射线分析的高真空碳涂层
•碳支持电影
•碳铂副本
•孔清洗
•旋转跟踪
•石棉分析
•电阻蒸发
•故障分析
•高纯度超薄膜
没有任何可见的污染
为电子显微镜准备样品时。
快速循环次数
不到3分钟,dv - 502 b达到10 -⁴托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。
强大的控制系统
PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。
安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。
各种各样的金属
蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。
多个泵配置
各种泵的配置，可适用于您的预算和过程。
DV - 502B 选项
报价：面议
已咨询1538次美国Denton Vacuum
报价：￥100000
已咨询196次定制手套箱
报价：面议
已咨询159次镀膜沉积系统
报价：面议
已咨询159次沉积设备
报价：面议
已咨询119次纯化/浓缩
报价：面议
已咨询107次纯化/浓缩
报价：面议
已咨询87次纯化/浓缩
报价：面议
已咨询112次纯化/浓缩
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
营业执照已审核
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沪公网安备 31011502008050号