中科光电URE-2000/30D 型(定制)紫外光刻机
中科光电紫外光刻机URE-2000/34AL
URE-2000/35 AL 型紫外单面光刻机
URE-2000S/25S 型双面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000/30D型(定制)紫外光刻机

1.技术参数
曝光面积:4 英寸
曝光波长 1:365nm 或 405nm(可切换,更换滤光片),
曝光波长 2:248nm
曝光位置 1 和曝光位置 2 自动切换
分辨力:0.8-1m
掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸(标准配置,其他尺寸可定做)
样片尺寸:直径 Φ10mm-- Φ100mm 或者 15mm*15mm-100mm*100mm(标准配置,其他尺寸可定 做),可适应厚度为 0.1mm--5mm(utmost可扩展为 15mm)
曝光方式:定时(倒 计时方式)
具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能
照明不均匀性:3%(Φ100mm 范围)
调平接触压力通过传感器保证重复
数字设定对准间隙和曝光间隙
掩模相对于样片运动行程: X: 优于±5mm; Y: 优于±5mm;
优于±6º
utmost焦厚:400um(SU8 胶,用户提供检测条件)
光源平行性:<3º
曝光能量密度 1:>20mW/cm²(365 或 405nm),照明面温度<35º
曝光能量密度 2:>3mw/cm²(248nm)
单层曝光一键完成
采用球气浮自动找平
汞灯功率:350W(直流,进口汞灯)
2.外形尺寸:约 1400mm(长)*900mm(宽) *1800mm(高)
3.配置 设备主要由均匀照明曝光系统、工件台系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设 备构成。

报价:¥490000
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。