德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
TL-2000激光开封机
TL系列激光开封机通过激光能量的调节控制,去除封装电子器件的塑胶层。用于观察电子器件内部焊线偏移,焊线交叉短路,倒装焊焊球虚焊,倒装焊焊球短路,焊线断裂,焊线脱离等封装缺陷。
TOPS® LASER DECAP 应用
芯片失效分析
芯片开封被定义为有损性工艺,应用激光的物理开封也可以是无损工艺,
开封至部分芯片的晶圆层以及暴露出引线层结构。
存储芯片数据恢复
激光开封移除芯片塑封层,裸露邦定线和晶圆层,可配合使用探针板读取损毁存储芯片内部分或全部数据。
芯片防伪验证
汽车、航空、军 工等应用领域对芯片有高可靠性要求,然而伪造芯片或拆机芯片渗入采购渠道影响整机安全性。
激光开封后,可用显微镜观察验证芯片引线框架上的原厂激光防伪码等。
TOPS® LASER DECAP 效果照片

TOPS® LASER DECAP 规格参数

报价:面议
已咨询100次半导体微纳检测仪
报价:面议
已咨询608次开封机
报价:面议
已咨询463次激光设备
报价:面议
已咨询110次开封机
报价:面议
已咨询787次激光芯片开封机
报价:面议
已咨询1829次激光芯片开封机
报价:面议
已咨询602次激光芯片开封机
报价:面议
已咨询488次激光设备
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。