中科光电URE-2000/30D 型(定制)紫外光刻机
中科光电紫外光刻机URE-2000/34AL
URE-2000/35 AL 型紫外单面光刻机
URE-2000S/25S 型双面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000/30 型紫外单面光刻机
1.技术特征
。高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程,并提供 USB 输出;既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果,且曝光结果和方便存储
。采用倒置式照明,更换汞灯更方便,散热和防漏光效果更好
。对准位和曝光位双工位工作,双工位自动切换
。采用嵌入式计算机+触摸屏操作,操作更方便,更时尚
。上下片、版十分方便,自动化程度高,操作简便。对高校教学科研(可靠性好,演示方便)及工厂(效率高)尤为适宜
2.技术参数
。曝光面积:100mm×100mm(可升级为 6 英寸)
。曝光波长:365nm
。分辨力:≤1 μm(胶厚 1.5 μm 的正胶)
。对准精度:±0.6 μm
。显微镜扫描台运动范围:X:10mm;Y:10mm
。掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸
。样片尺寸:直径Ф 15mm-- Ф 100mm(各种不规则片)厚度 0.1mm--6mm
。曝光方式:定时(倒 计时方式)和定剂量
。具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能30
。照明不均匀性: 3%(Ф 100mm 范围)
。双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学最 大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍
物镜三对:4 倍、10 倍、20 倍
目镜三对:10 倍、16 倍、20 倍
。曝光对准双工位自动切换
。调平接触压力通过传感器保证重复
。数字设定对准间隙和间隙
。具备压印模块接口,也具备接近模块接口
。掩模相对于样片运动行程:
X: ± 5mm; Y: ± 5mm; Thelta: ± 6º
。最 大焦厚:400 μm(SU8 胶,用户提供检测条件)
。光源平行性:3 º
。曝光能量密度:>25mW/cm2,照明面温度<35 ºC
。单层曝光一键完成
。采用球气浮+三爪找平
。汞灯功率:350W(直流,进口)
3.外形尺寸:1400mm(长)x900mm(宽) x1500mm(高)
4.配置
(1)曝光头
。冷光椭球镜
。350W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)
。XYZ 汞灯调节台
。冷却风扇
。光学系统:固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组(79 个透镜)、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2
(2)对准工件台
。光刻机底座
。工位切换台(气缸)
。掩模样片整体运动台
。掩模样片相对运动台
。转动台
。样片调平机构,三点自动完成31
。样片调焦机构,电机自动调
。基片抽拉式上下机构
。承片台 4 个:Ф 15mm 、Ф 40mm、Ф 60mm、Ф 100mm(可按用户要求增减)
。掩模夹 4 个:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸(可按用户要求增减)
。样片抽拉式上下机构
(3)对准显微镜
。光源、 电源
。双目双视场对准显微镜主体
。目镜 3 对(10 倍、16 倍、20 倍,共 6 个)
。物镜 3 对(4 倍、10 倍、20 倍,共 6 个)
。CCD 对准系统,22 寸液晶显示器
(4)电控系统
。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)
。单片机控制系统
。控制面板
。控制柜桌
(5)气动系统
。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等
。电磁阀驱动
。气动仪表
(6)其他附件
。真空泵一台
。空压机一台
。配套接口管道
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。