RION KZ-30UK Pressure Sampler
特色
◼ 因应待测试产品之高粘度，以及气泡对于Particle之干 扰，使用可加压除泡之机种应用。
◼ 设计简单的化学防爆采样器，KZ-30UK的设计是可以为 离线测试的液体粒子计数器提供加压。
◼ 易于操作的室内化学采样器，当腔体压力过高的时候， 可以排净空气，防止发生故障
详细参数：
可承受最 大空气压力：
样品进气口: 0.4 MPa
腔体: 0.2 MPa
可调压力范围： 0.02 to 0.2 MPa (表压)
阀门的最 大承受压力： 0.3 MPa (表压)
与样品接触部件的材质： PFA, PTFE, CTFE
腔体材质： 高硼硅玻璃（内表面是聚四氟乙烯涂 层），SUS316，聚丙烯，氯丁橡胶
尺寸与重量：674 (H) X 250 (W) X 400 (D) mm, 约重. 15 kg
报价：面议
已咨询578次Rion 液体光学颗粒度仪
报价：面议
已咨询842次Rion 液体光学颗粒度仪
报价：面议
已咨询384次手传振动测试仪
报价：面议
已咨询449次声级计
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
营业执照已审核
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沪公网安备 31011502008050号