DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
德国Netzsch差示扫描量热仪DSC 3500
OptiCool 超极ng准全开放强磁场低温光学研究平台
OptiCool 超极ng准全开放强磁场低温光学研究平台
DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
OptiCool超精 准全开放强磁场低温光学研究平台

OptiCool是Quantum Designzui新推出的超精 准全开放强磁场低温光学研究平台,创新独特的设计方案确保样品可以处于光路的关键位置。系统拥有3.8英寸超大样品腔、双锥型劈裂磁体,可在超大空间为您提供高达±7T的磁场。多达7个侧面窗口、1个顶部超大窗口方便光线由各个方向引入样品腔,高度集成式的设计让您的样品在拥有低温磁场的同时摆脱大型低温系统的各种束缚。
超精 准全开放强磁场低温光学研究平台——OptiCool部分应用领域:
.MOKE/低温MOKE
· 低温拉曼
· 光致发光
· 紫外/红外反射&吸收
· 傅里叶红外光谱
· 低温高压
. NV色心、空位荧光
· 纳米磁学
· 探测器
· 量子光学
· 自旋电子学
OptiCool是全干式系统,启动和运行只需少量氦气。全自动软件控制实现一键变温、一键变场;89mm直径,84mm高度的超大样品空间、顶部窗口90°光路张角让测量更便捷;ZG控温技术让控温更智能;新型磁体wan美结合了超大均匀区与超大数值孔径。OptiCool让低温光学实验无限可能。
超精 准全开放强磁场低温光学研究平台——OptiCool技术特点:
8个光学窗口:
·7个侧面窗口 (NA > 0.11)
·1个顶部窗口 (NA > 0.7)
· 超大磁场:±7T
· 超低震动:<10nm 水平 峰-峰值<4nm 竖直 峰-峰值
· 超大空间:Φ89mm×84mm
· 精 准控温:1.7K~350K全温区精 准控温
· 新型磁体:双锥型劈裂磁体,同时满足超大磁场均匀 区、大数值孔径的要求。
· 全干式系统:完全无液氦系统,脉管制冷机。
样品腔体结构图:

OptiCool样品舱为用户提供了自定义实验装置的工作台。当您准备开始实验时样品舱可以方便的放入预接线的控温样品台。测量完成后,您可以很方便的用准备好的样品舱更换,进行下一个样品的测量。OptiCool标配16根引线,并且已经由接口面板经过热沉后引至样品室,引线最多可增加至80根。
多功能样品仓:

报价:面议
已咨询933次光学研究平台
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报价:¥1
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。