仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册2 登录
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-产品库- 视频

产品中心

仪器网>产品中心> 深圳市蓝星宇电子科技有限公司>半导体微纳检测仪>ASAS II自动化标准添加系统

ASAS II自动化标准添加系统

面议 (具体成交价以合同协议为准)
IAS 亚洲 日本 2026-01-26 09:08:43
售全国 入驻:8年 等级:金牌 营业执照已审核
扫    码    分   享

立即扫码咨询

13538131258

已通过仪器网认证,请放心拨打!

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的,谢谢!

为你推荐

产品特点:

ASAS II自动化标准添加系统通过自动制备校准标准溶液,提升了电感耦合等离子体(ICP)分析的效率与精度。该系统采用非接触式光流传感器和高精度注射泵,实现微量标准溶液的精准添加。其无阀门设计及全氟聚

产品详情:

ASAS II自动化标准添加系统

ASAS II 使操作人员无需费力准备标准溶液,提高了您的电感耦合等离子体(ICP)分析的生产力和精度。

◆校准标准溶液自动制备。

◆ 非接触式光流传感器可自动测量进样速率。

◆高精度注射泵(玻璃材质:1000 微升)以及标准进样管路中无阀门的专   利结构,能够自动将标准溶液以微升/分钟的级别添加到样品管路中。

典型的输出流量约为 1 - 10 微升/分钟。

◆可以使用样品自吸。

◆所有湿润表面均采用无金属含氟聚合物。

◆当注射器中的溶液达到空位时,自动补充标准溶液。

不同的化学样品被设置在自动进样器上,并通过标准加入法进行分析。

示例:10% NMP(氮甲基吡咯烷酮)、10% HCl(盐酸)、5% H2SO4(溶剂)、1% H3PO4 雾化器:聚氟乙烯同心式,自吸速率为 200 微升/分钟 标准:0.2 毫克/升(在 1% HNO3) 浓度中) 浓度:1、2、5 和 10 微克/升

◆标准的 ASAS 软件控制不仅包括 ASAS II 和自动进样器,还会向 ICP 发送触发信号。ICP 软件中设置的程序可以自动执行。

◆智能软件具有以下功能。ASAS II 从 ICP 获取结果数据并进行所有数据分析。

- 制作校准曲线,并检查各元素的相关系数和灵敏度。可自动进行重新校准。

检查每次分析的标准偏差(SD)和相对标准偏差(RSD),当它们超过限度时,执行重新分析的功能。

- 按照指定频率对质量控制(QC)溶液进行分析,当超出限度时,具备重新分析或重新校准的功能。

当结果超过限值时发出警报。

- 根据 SEMI C10 - 1109 协议进行准确度和精密度检查。



您可能感兴趣的产品

深圳市蓝星宇电子科技有限公司为你提供ASAS II自动化标准添加系统信息大全,包括ASAS II自动化标准添加系统价格、型号、参数、图片等信息;如想了解更多产品相关详情,烦请致电详谈或在线留言!
  • 相关品类
  • 同厂商产品

您可能还在找

新品推荐

ixion 193 SLM 准分子激光器

IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。

ixion 193 SLM 准分子激光器

IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。

ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di

ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di

SYSKEY紧凑式溅射系统 Compact Sputter

Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。

SYSKEY紧凑式热蒸发镀膜系统 Compact Thermal

Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料

SYSKEY 高真空溅射系统 HV Sputter

高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%

SYSKEY超高真空磁控溅射镀膜机UHV Sputter

超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本

Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal

Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。

在线留言

上传文档或图片,大小不超过10M
换一张?
取消