2013 年 3 月，Quantum Design 公司在美国物理协会年会上，发布了zui新设计的磁学测量系统：MPMS3系统。该系统仍旧基于SQUID探测技术，但不是MPMS(SQUID)XL系列和SQUID-VSM系统的简单升级。MPMS3系统是Quantum Design公司潜心开发多年的结晶，在该产品上集成了大量的全新ZG技术。
对比于MPMS XL和SQUID-VSM磁学测量系统，MPMS3将二者的优点进行了融合。MPMS3系统外观虽然与SQUID-VSM相似，但系统进行了重新设计，同时具备了SQUID-VSM的高速高精度测量，以及MPMS XL的DC测量模式、Raw Data功能和Point- to-Point测量功能。系统带有全新的DC Scan测量模式，VSM测量模式以及交流测量模式可供用户选择，zui大程度的满足用户的测量要求。MPMS XL用户和SQUID-VSM用户将会非常容易的上手使用MPMS3。另外对于SQUID-VSM用户，我们也提供了升级方案，用户可将SQUID-VSM系统升级至MPMS3系统。
MPMS3系统带有的新式完全无液氦Evercool选件，可实现全氦气启动和运行，完全摆脱对液氦的依赖。
新的ZG技术
1) RapidTemp™快速温控技术
系统从300K匀速降至10K仅需15分钟，从10K稳定到1.8K也仅需5分钟
2) QuickSwitch™超导开关技术
超导开关在超导态和正常态之间的转换仅需要1秒钟时间
3) FastLab™快速数据采集技术
系统的超导磁体允许最大700Oe/s的励磁速度，在零场下仅需4秒数据平均时间(data average time)，系统便能达到1×10-8emu的测量精度；并且系统允许用户在扫场模式下进行高精度的测量。
MPMS3系统技术参数:
温度区间： 1.9~400 K 连续控制
降温速度： 30 K/min 300 K>T>10 K
10 K/min 10 K>T>1.8 K
样品腔内径： 9 mm
磁场强度： ±7 特斯拉
磁场均匀度： 4 cm 范围内达到 0.01%
励磁速度： 最大700 Oe/s
样品振动范围：0.1-8 mm (峰值)
最大测量磁矩：10 emu
测量灵敏度： <1×10-8 emu H＝0 T (10秒测量时间)
<8×10-8 emu H＝7 T (10秒测量时间)
报价：面议
已咨询769次磁学测量系统
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
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