仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业更新时间：2026-04-24 01:40:54

半导体行业

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产品分类：: 更多光刻机/台式无掩模光刻机离子减薄仪等离子体表面处理仪离子溅射仪电子束刻蚀系统离子束刻蚀系统激光刻蚀机磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪气相沉积系统分子束外延系统激光溅射沉积系统原子层沉积系统匀胶机

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小型台式无掩膜光刻系统

品牌：英国Durham Magneto Optic 型号：Microwriter ML3 产地：欧洲英国

厂商：清砥量子科学仪器（北京）有限公司

简介：Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

激光刻蚀机
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统

品牌：Forge Nano 型号：P 系列产地：美洲美国

厂商：复纳科学仪器（上海）有限公司

简介：粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命，如锂电正极或负极材料，经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升，但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主，该方法包覆均匀性较差，性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆，是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点，采用流化床技术实现粉末材料的流化，从而保证前驱体与粉末实现充分的接触。P 系列是 Forge Nano 针对工业包覆研发的粉末 ALD 负载系统，可实现 kg 级粉末批量包覆，是工业生产前Z理想的研发工具。

原子层沉积系统
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统

品牌：Forge Nano 型号：PANDORA 产地：美洲美国

厂商：复纳科学仪器（上海）有限公司

简介：PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统，可摆放在实验室的任意角落，采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散，有更高的兼容性。对于平面样品，则可快速插入平面反应台，实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率，使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。

原子层沉积系统
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台式三维原子层沉积系统ALD

品牌：美国ARRADIANCE 型号：GEMStar XT 产地：美洲美国

厂商：清砥量子科学仪器（北京）有限公司

简介：美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可zui 多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03% 以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上实现膜厚的不均匀性优于99%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500: 1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。

原子层沉积系统
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日立离子溅射仪 MC1000

品牌：日立型号：MC1000 产地：亚洲日本

厂商：日立科学仪器（北京）有限公司

离子溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-600-2HD 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

简介：VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
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托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro

品牌：TuoTuo 型号：TTT-07-UV Litho-ACA Pro 产地：江苏苏州

厂商：托托科技（苏州）有限公司

简介：步进式光刻更高的精度激光主动对焦 6 英寸加工幅面特征尺寸0.4 μm

光刻机/台式无掩模光刻机
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昊量/auniontech DMD无掩膜光刻机超高分辨率时间相关单光子计数模块(TCSPC)

品牌：昊量/auniontech 型号：(TCSPC) 产地：上海徐汇区

厂商：上海昊量光电设备有限公司

光刻机/台式无掩模光刻机
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徕卡多功能离子减薄仪-Leica EM RES102

品牌：徕卡型号：Leica EM RES102 产地：欧洲德国

厂商：链能金相实验设备南京有限公司

简介：徕卡多功能例子减薄仪Leica EM RES102，通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以清除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。突出特点： ► 对无机薄片样品进行离子减薄，适宜TEM透射电子显微镜观察 ► 对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电镜观察样品内部结构信息

离子减薄仪
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昊量/auniontech DMD无掩膜光刻机

品牌：昊量/auniontech 型号：DMD 产地：上海徐汇区

厂商：上海昊量光电设备有限公司

光刻机/台式无掩模光刻机
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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：GSL-1100X-SPC-16 产地：辽宁

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

离子溅射仪
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球形脉冲激光沉积系统（PLD）

品牌：沈阳科晶型号：产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

激光溅射沉积系统
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双靶磁控溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-600-2HD-1000 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
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单靶磁控溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-600-1HD 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
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三靶磁控溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-600-3HD 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
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单靶等离子溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：GSL-1100X-SPC-16 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

离子溅射仪
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3靶等离子溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-16-3HD 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

离子溅射仪
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柜式匀胶机

品牌：沈阳科晶型号：VTC-200-CSC 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

匀胶机
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红外加热喷雾旋转涂覆机、匀胶机

品牌：沈阳科晶型号：VTC-200-4P 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

匀胶机
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真空旋转涂膜机,匀胶机

品牌：沈阳科晶型号：VTC-200P 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

匀胶机
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紫外光旋转涂膜机、匀胶机

品牌：沈阳科晶型号：VTC-100PA-UV 产地：辽宁沈阳

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

匀胶机
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离子溅射仪-AURORA欧波同系列离子溅射仪

品牌：欧波同型号：AURORA-01 产地：北京朝阳区

厂商：北京欧波同光学技术有限公司

简介：该产品安全性高，触屏控制，过程参数可视，内置操作向导，操作简单方便。

离子溅射仪
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD

品牌：iplas 型号：iplas CYRANNUS 产地：欧洲德国

厂商：清砥量子科学仪器（北京）有限公司

简介： 1. CYRANNUS®技术无需在样品腔内安装内部电极，在沉积腔内，没有工作气体以外的任何物质，洁净，无污染源。等离子发生器可以保持长寿命，并可以确保腔内的等离子体的均匀分布，进一步生成晶体的纯净度和生长周期。 2. CYRANNUS®技术的腔外多电极设置，确保等离子团稳定生成于腔内ZX位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，减少杂质来源，提高晶体纯度。由CYRANNUS®系统合成的金刚石，纯度均在VVS级别以上。

气相沉积系统
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-16-3HD 产地：辽宁

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

离子溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

品牌：沈阳科晶型号：VTC-600-3HD 产地：辽宁

厂商：沈阳科晶自动化设备有限公司

简介：VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

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新品推荐: 托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro
步进式光刻更高的精度激光主动对焦 6 英寸加工幅面特征尺寸0.4 μm; 成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机半导体刻蚀离子束刻蚀反应离子刻蚀可定制; 成都真空设备厂家 research热蒸发/磁控溅射多靶复合磁控溅射镀膜机离子刻蚀机功能可定制; 郑科探等离子刻蚀机清洗机去胶机
等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。; 中芯热成精密光刻机
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。; 湿法工艺晶圆温度测量系统光刻机晶圆温度测量系统; 荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机; 荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机