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仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业 更新时间：2026-08-16 01:41:00

半导体行业

（共301件相关产品信息）
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更多 光刻机/台式无掩模光刻机 离子减薄仪 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 ESD/TLP 失效分析设备 电子束刻蚀系统 离子束刻蚀系统 脉冲I-V（PIV）特性测试系统 激光刻蚀机 射频半导体器件测试仪器 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机
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    小型台式无掩膜光刻系统

    英国Durham Magneto Optic Microwriter ML3 欧洲 英国
    清砥量子科学仪器（北京）有限公司
    Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

    激光刻蚀机

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    PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统

    Forge Nano P 系列 美洲 美国
    复纳科学仪器（上海）有限公司
    粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命，如锂电正极或负极材料，经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升，但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主，该方法包覆均匀性较差，性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆，是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点，采用流化床技术实现粉末材料的流化，从而保证前驱体与粉末实现充分的接触。P 系列是 Forge Nano 针对工业包覆研发的粉末 ALD 负载系统，可实现 kg 级粉末批量包覆，是工业生产前Z理想的研发工具。

    原子层沉积系统

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    PANDORA 多功能台式原子层沉积系统

    Forge Nano PANDORA 美洲 美国
    复纳科学仪器（上海）有限公司
    PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统，可摆放在实验室的任意角落，采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散，有更高的兼容性。对于平面样品，则可快速插入平面反应台，实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率，使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。

    原子层沉积系统

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    台式三维原子层沉积系统ALD

    美国ARRADIANCE GEMStar XT 美洲 美国
    清砥量子科学仪器（北京）有限公司
    美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可zui 多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03% 以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上实现膜厚的不均匀性优于99%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500: 1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。

    原子层沉积系统

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    托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro

    TuoTuo TTT-07-UV Litho-ACA Pro 江苏 苏州
    托托科技（苏州）有限公司
    步进式光刻 更高的精度 激光主动对焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    日立离子溅射仪 MC1000

    日立 MC1000 亚洲 日本
    日立科学仪器（北京）有限公司

    离子溅射仪

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    Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80

    牛津仪器 PlasmaPro 80 欧洲 英国
    似空科学仪器（上海）有限公司
    PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

    电子束刻蚀系统

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    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

    沈阳科晶 VTC-600-2HD 辽宁 沈阳
    沈阳科晶自动化设备有限公司
    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

    磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

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    昊量/auniontech DMD无掩膜光刻机超高分辨率 时间相关单光子计数模块(TCSPC)

    昊量/auniontech (TCSPC) 上海 徐汇区
    上海昊量光电设备有限公司

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    徕卡多功能离子减薄仪-Leica EM RES102

    徕卡 Leica EM RES102 欧洲 德国
    链能金相实验设备南京有限公司
    徕卡多功能例子减薄仪Leica EM RES102，通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以清除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。 突出特点： ► 对无机薄片样品进行离子减薄，适宜TEM透射电子显微镜观察 ► 对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电镜观察样品内部结构信息

    离子减薄仪

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    全自动原子层沉积系统(ALD)

    维易科 Savannah G2 ALD 美洲 美国
    香港电子器材有限公司

    原子层沉积系统

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    无掩膜光刻机 激光直写系统

    韩国MIDAS MLW-100 亚洲 韩国
    科睿设备有限公司
    紧凑型光学模块：使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    昊量/auniontech DMD无掩膜光刻机

    昊量/auniontech DMD 上海 徐汇区
    上海昊量光电设备有限公司

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    hanwa T5000 高性能TLP & VF-TLP

    英铂 上海 松江区
    英铂科学仪器（上海）有限公司

    ESD/TLP

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    ￥1

    EVG101 匀胶机 匀喷胶机 光刻胶处理机

    EVG EVG101 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    EVG101光刻胶处理系统在单室设计上可以满足研发工作，与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持zui大300 mm的晶圆，可配置为旋涂或喷涂和显影。使用EVG先进的OmniSpray涂层技术，在3D结构晶圆上实现光刻胶或聚合物的共形层，用于互连技术。这确保了高粘度光致光刻胶或聚合物的低材料消耗，同时改善了均匀性并防止了扩散。

    匀胶机

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    GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪

    沈阳科晶 GSL-1100X-SPC-16 辽宁
    沈阳科晶自动化设备有限公司

    离子溅射仪

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    EVG770 NT分步重复纳米压印光刻机

    EVG EVG770 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。

    激光刻蚀机

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    EVG620 NT掩模对准光刻机系统

    EVG EVG620 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在蕞小的占位面积上结合了先进的对准功能和蕞优化的总体拥有成本，提供了优于其他品牌的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    HERCULES量产型光刻机系统

    EVG HERCULES 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    光刻机Track系统通过集成的生产系统和结合掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理的高度自动化功能，完善了EVG光刻机产品系列。HERCULES光刻机Track系统基于模块化平台，将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁，光刻胶涂层，烘烤和光刻胶显影模块相结合。

    激光刻蚀机

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    EVG7300多功能紫外纳米压印光刻系统

    EVG EVG7300 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    多功能EVG7300 UV纳米压印光刻系统可以支持多种相关的UV工艺:SmartNIL，晶圆级光学(WLO)和堆叠-三种功能合并在一个灵活的工具中

    激光刻蚀机

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    EVG6200 NT掩模对准光刻系统

    EVG EVG6200 NT 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    特色：EVG 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

    激光刻蚀机

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    球形脉冲激光沉积系统（PLD）

    沈阳科晶 辽宁 沈阳
    沈阳科晶自动化设备有限公司

    激光溅射沉积系统

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    双靶磁控溅射仪

    沈阳科晶 VTC-600-2HD-1000 辽宁 沈阳
    沈阳科晶自动化设备有限公司

    磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

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    单靶磁控溅射仪

    沈阳科晶 VTC-600-1HD 辽宁 沈阳
    沈阳科晶自动化设备有限公司

    磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

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    三靶磁控溅射仪

    沈阳科晶 VTC-600-3HD 辽宁 沈阳
    沈阳科晶自动化设备有限公司

    磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

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