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日立离子溅射仪 MC1000

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产品简介

日立离子溅射仪 MC1000

日立离子溅射仪 MC1000.png

日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。

主要特点:

1.      操作方便且有记忆功能,首chuangLCD触摸屏控制技术,可存储五种处理方案;

2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀;

3.      通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。

 

应用领域:

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。


  • 离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为

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