离子溅射仪

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

供应商：似空科学仪器（上海）有限公司

采用磁控型电极，最大限度地减轻对样品的损坏。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。 场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美TED PELLA 108AUTO 自动离子溅射仪，是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。配置参数如下：仪器尺寸：480mmWx320mmDx240H工作腔室：硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH真空系统：涡轮分子泵，抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真空测量：采用复合真空计检测真空极限真空度：优于5X10-4Pa工作真空度：5X10-1Pa（溅射真空度手动调节）溅射工作气体：氩气工作电压：0-800V溅射电流：0-500mA电源：230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培）靶材：D60-80mm多种弱磁靶选配项：气体质量流量计，冷水机，可根据用户要求进行功能改装

供应商：溢鑫科创科技集团

Cressington 208HR SPUTTER COATER 超高分辨溅射镀膜仪分子泵超高分辨镀膜，电镜放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒，非常适合于现阶段超高分辨场发射电镜或双束电镜，电子探针等，如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等， 日立电镜的SU80000， SU8200, S4800， 9000系列等， 日本电子 7600F, 7800F等， 蔡司的Merlin, Ultra, Gemini, Auriga系列等。分子泵超高分辨镀膜，放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒，适用于现阶段超高分辨场发射或双束电镜使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; JEOL 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga; 为了答谢广大中国电镜工作者对于英国Cressington产品信赖和支持，以及对于溢鑫科创工作的配合和支持，我司和英国原厂特举办回馈优惠活动：凡在2015年12月30日前购置超高分辨208HR镀膜系统，将赠送超高分辨膜厚监控仪MTM-20以及高性能旋转倾斜行星样品台。专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品，在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤，对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得208HR拥有广泛多种镀层靶材选择全自动化设计自动的换气与泄气功能，溅射电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制保证了均匀一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。超高精度膜厚监控设计使用可选MTM-20全自动高分辨膜厚监控仪可优化设计镀膜条件达到0.1nm膜厚可控效果多用途样品托设计独立的旋转，水平和倾斜 3轴移动设计优化了多样品以及不规则样品的均匀一直镀膜可变的样品室几何设计为了优化镀层结构样品室几何设计可用于调整喷镀速度从1.0纳米每秒到0.002纳米每秒广泛的操作气体压力独立的电压，电流以及压力回路控制系统允许可操作氩气压力从0.2-0.005mbar真空度紧凑型时尚桌面式设计节能，紧凑设计消除了对于楼层空间要求，水要求和专业电气连接要求镀膜不同多样样品超高分辨208HR镀膜系统现在针对喷镀不同电镜样品提供了最理想的解决方案。为了减小喷镀晶粒尺寸影响，208HR提供一套全系列的镀膜靶材材料和前所未有的膜厚镀层控制条件。为了更小优化充电效果，208HR的特殊样品台设计和大范围的操作压力提供了高精度的镀膜一致性和统一性。 高低样品室的配置也提供了更为方便的工作距离调整。可调式旋转倾斜水平样品台 超高分辨全自动膜厚监控仪 MTM-20208HR超高分辨镀膜仪技术规格：样品仓尺寸： 150mm 直径， 可调高度： 165mm - 250mm，高强度不锈钢结构溅射管头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩喷镀靶材：铬，铂/钯 标配， 金，钨，铜，铝，铱，银等选配，其他材料按客户需求提供溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护，数字化可选电流（20，40，60 或80毫安）样品台：可放置12个标准EM样品座，0到90度倾斜可调的旋转水平样品座，石英晶体探头模拟计量：真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 100mA控制方式： 全自动喷镀控制，自动卸真空自动进气功能，使用可编程电压控制和计时数字计时 (0 300秒)以及暂停设计；全自动真空监测系统真空系统： 标配无油分子泵真空以及机械泵真空系统，泵抽速达到每秒80L，1.5分钟内抽到真空度到1 x 10-4 mbar, 极限真空优于5 x 10-6 mbar，附带减震台的桌面式真空泵设计，全金属耦合系统全自动超高分辨膜厚监控仪技术规格：MTM-20 基于微处理控制，4位显示系统，6MHZ晶体监探器，每秒5次实时监控 MTM-20膜厚监控范围： 0到999.9纳米分辨率： 优于0.1纳米密度范围：0.50到30.00gm/cm3安装环境要求：电源：200-240 VAC, 50/60Hz 功率：550VA氩气要求：99.99% 纯氩气，压力设定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口设备尺寸：宽600mm， 深600mm，高450mm, 重量40kG 备注：为保证销售渠道正规，配套方案先进及统一的市场管理和售后服务，英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理，中国官方授权总代为：溢鑫科创Yi Xin Technology，详细信息请参考英国原厂官方网址。

供应商：溢鑫科创科技集团

英国Cressington高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜SEM，透射电镜TEM和电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高质量的电极薄膜制备，溢鑫科创Yi Xin Technology是Cressington在中国唯一官方授权代表，全权负责此产品在国内产品销售，售后服务，市场推广和授权等工作。               Cressington 108 Auto/ Manual SPUTTER COATER Cressington 108/108Auto离子溅射仪是用于电镜样品前处理，制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统主要优势功能：自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。技术规格：样品仓尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75")，高强度不锈钢结构样品台：可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护 溅射控制：微处理器控制，安全互锁，可调，最大电流40mA，程序化数字控制溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩模拟计量：真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A厚度监测器： MTM-10高精度厚度监测器(选配)控制方式：自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s），自动放气电源：200-240 VAC, 50/60Hz 功率：1000VA (包括镀碳机和真空系统)氩气： 纯度优于99.9%，压力调节0.5-0.6 bar, 6mm连接软管 备注：为保证销售渠道正规，配套方案先进及统一的市场管理和售后服务，英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理，中国官方授权总代为：溢鑫科创Yi Xin Technology，详细信息请参考英国原厂官方网站信息。

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致，机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足精准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；膜厚均匀稳定；

供应商：北京博远微纳科技有限公司

TD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，离子溅射仪，喷金仪旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配有高位定性的飞跃真空泵

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；高压输出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（强/弱磁靶）、光纤旋转台（定制）、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统、膜厚监测系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 真空系统：涡轮分子泵，抽速为300L/s 前级机械泵：抽速为4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量：采用复合真空计监测真空

供应商：南京覃思科技有限公司

Q150R是一款多功能紧凑型机械泵磁控离子真空镀膜系统，对于SEM样品制备及其它镀膜应用非常理想。直径为165mm/6.5”的腔室可容纳多种需要镀导电膜的样品 尤其用于在SEM应用中提高成像质量。Q150R S 机械泵抽真空离子溅射镀膜仪，适于给样品镀制不氧化金属膜（即贵金属膜），如金、银、铂和钯。 Q150R E 机械泵抽真空蒸发镀碳仪，使用碳丝或碳绳为SEM样品镀膜。 Q150R ES 集Q150R S和Q150R E两者的功能于一体，节省空间。这个双重用途、结构紧凑、机械泵抽真空的镀膜系统标配有溅射插入头和碳丝蒸发插入头 可提供无与伦比的多用途镀膜。 此外，辉光放电选项也是可用的（仅Q150R S和Q150R ES版本），它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。 快速简便：快速、易更换的镀膜插入头，能在同一个紧凑设计中实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。与镀膜处理方法及镀膜材料相适配的镀膜参数方案可通过触摸按键实现预设并储存。自动放气控制功能确保了溅射期间最佳的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。 易使用：智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜插入头，以便立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案 这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都带有快速、易更换及落入式设计的特点。 功能强大、可重复镀膜及高可靠性：可预编程的镀膜参数及方案能确保一致且可重复的结果。需要沉积厚膜时，本系统提供长达60分钟且无需破真空的溅射时间。设计先进的碳蒸镀插入头操作简单,具有对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。 适配性强且用途广：溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使Q150R对于多用户实验室应用非常理想。可溅射一系列不氧化金属，如金、银、铂和钯。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非常快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。溅射靶材或碳蒸发源的选用： 金 常规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果最好。 银 高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。 铂 在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优良的二次电子发射能力。 钯 用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。 金/钯合金（80:20%） - 通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高最终分辨率。 碳丝蒸镀 碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。 碳棒蒸发 用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS150T 镀膜仪EMS150T镀膜仪的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。    EMS150T镀膜仪系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻完美的镀膜品质！ 根据不同的应用方向，EMS150T细分为三个型号：l  EMS150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。l  EMS150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。l  EMS150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等 触摸屏控制：EMS150T镀膜仪操作十分简单，直观的触摸屏，即使最不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。 镀膜插入头选项：l  具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头l  溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料，直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材，可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号）l  适用于3.05mm碳棒蒸发插入头l  适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济l  碳丝蒸发插入头l  金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号） 样品台选项：l  EMS150T镀膜仪具有各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。l  标准配置为旋转台, 直径为50mml  可预设倾斜角度的旋转台（可选）l  可变角度旋转行星台（可选）l  可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选）l  显微镜载玻片样品台（可选） 其它选项：l  用于高样品的加高腔室l  膜厚监测器（FTM）l  用于测量低和高真空的全范围真空计 特点和优点:l  金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空间l  精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用 l  涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 l  全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作 l  可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 l  与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 l  精细的厚度控制：使用膜厚监控选项 l  “智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 l  高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 l  蒸发电流波形控制 l  Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台） l  真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品l  镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）l  人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装 l  带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新 l  设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本 l  符合当前电器法规（CE认证） EMS150T仪器参数：仪器尺寸585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)重量 33.4KG工作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩触摸屏用户界面带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护工作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩​样品台转速为8-20rpm的旋转台真空系统涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器真空测量皮拉尼真空计作为标配极限真空度10-5mbar两级电源需求90-250V~50/60Hz   1400VA（ 包括旋转机械泵电压240V）气体溅射工作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）金属蒸发和光阑清洁头用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑碳蒸发稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳电流脉冲1-90安培溅射0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器溅射工作真空范围5*10-3到5*10-1mbar溅射靶材和碳耗材供应EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

产品简介Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，极限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。产品特点1. 极限真空度可达1x10-6mbar2. 新的LED状态指示灯3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录4. 新软件允许多用户界面设置5. 新的电容触摸屏设计

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源，蒸发电流可控，确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选，用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且有记忆功能，首创LCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3.      通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。 应用领域：离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足精准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；外观时尚小巧，机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下： 1、靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm 2、真空样品室： 直径：160mm，高：120mm 3、溅射面积： Ф50mm，最大放置 4、真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表： 最大电流：50mA(100mA) 6、定时器： 最长时间：900S 7、微型真空气阀： 可连接φ3mm软管 8、可通入气体： 多种 9、最高电压： -1600（-3000）DCV 10、机械泵： 2L/S主要特点：特点： 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室 压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟 罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均 匀纯净。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 靶（上部电极）：直径：45mm，厚度：0.12mm - 真空样品室： 直径：160mm，高：120mm - 溅射面积： Ф45mm，三区域 - 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表： 最大电流：50mA - 定时器： 最长时间：900S - 微型真空气阀： 可连接φ3mm软管 - 可通入气体： 多种 - 最高电压： -1600（-3000）DCV - 机械泵： 2L/S主要特点：特点：1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 仪器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） - 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H） - 靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H） - 样品台： 50mm (D) - 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar - 工作电压： 0-1600V (DC)可调 - 溅射电流： 0-50mA - 溅射定时： 1-9999S - 蒸碳电流 0-10A(AC) - 真空泵： 2升两级机械旋转泵（极限真空2×10-2mbar）主要特点：在 ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

供应商：北京裕隆时代科技有限公司

产品描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代公司精心设计制造，是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金镀膜系统，能够极为有效的提高电镜观测效果。产品特点： 操作简便，性能优越，质量稳定，功能丰富相比上一代产品，LJ-16小型离子溅射仪有大幅度的性能提升：◆换装新一代真空泵，大幅降低仪器噪音。◆标配样品室真空表和溅射电流表，实时显示和监控仪器状态。◆特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象。◆配置溅射电流控制器和微型真空气阀。结合自动控制电路，轻松控制真空室压强、电离电流，并可任意选择所需电离气体，以获得最佳镀膜效果。◆标配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸纯金靶，溅射范围更大，可同时溅射6个样品，靶材使用时间更长。◆预设参数，一键操作即可完成溅射功能。工作状态喷镀效果应用案例：喷金前后图像对比样品为水泥，由于导电性不好，可以看到，（上图）喷金前5000倍的图像已经略显模糊。在相同的实验条件下，样品用LJ-16小型离子溅射仪喷金后，图像轻松放大45000倍（下图），并可见非常清晰的水泥晶体结构。可见LJ-16离子溅射仪能够极为有效的提高扫描电镜图像质量，为您的科研工作提供极大帮助。技术参数名称规格名称规格玻璃处理室内径Ф 115mm x 高度130mm真空保护20PA配有微量充气阀调节工作真空试样台尺寸内径Ф 40mm, 可同时放六个样品杯工作媒介气体空气或氩气，配有氩气专用进气和微量充气调节金靶尺寸Ф58mm X 0.12mm 定时开关控制溅射时间，范围为10～110S真空系统直联旋片真空泵 2L/秒可用靶材金靶，铂靶，镍靶真空检测皮氏计产品尺寸400mm X 500mm X 400mm（带玻璃罩）工作电源220 VAC 50Hz客户服务裕隆时代拥有一支涉及众多领域高素质的应用支持团队，向客户提供完整的实验室解决方案和良好的售后服务。我们承诺24小时内对客户需求做出反应。专业勤奋的销售队伍，随时为您提供咨询服务。经验丰富的专家队伍，为您答疑解惑，拓展您的应用领域，提升客户应用水平。勤勉敬业的售后团队，向您提供专业及时的售后服务，解决您的后顾之忧。裕隆时代，您最好的选择！

供应商：北京中科科仪股份有限公司

仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标： 玻璃处理室：∮100毫米，高度130毫米 试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系统：直联旋片真空泵2升/秒 真空检测：皮氏计 真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

供应商：溢鑫科创科技集团

英国Cressington高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜SEM，透射电镜TEM，电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高导电率的电极薄膜制备，溢鑫科创Yi Xin Technology是Cressington在中国唯一官方授权代表，全权负责此产品在国内产品销售，售后服务，市场推广和授权等工作。 Cressington 108 SPUTTER COATERCressington 108/108Auto离子溅射仪是用于电镜样品前处理，制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统主要优势功能：自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。技术规格：样品仓尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75")，高强度不锈钢结构样品台：可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护溅射控制：微处理器控制，安全互锁，可调，最大电流40mA，程序化数字控制溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩模拟计量：真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A厚度监测器： MTM-10高精度厚度监测器(选配)控制方式：自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s），自动放气电源：200-240 VAC, 50/60Hz功率：1000VA (包括镀碳机和真空系统)氩气： 纯度优于99.9%，压力调节0.5-0.6 bar, 6mm连接软管备注：为保证销售渠道正规，配套方案先进及统一的市场管理和售后服务，英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理，中国官方授权总代为：溢鑫科创Yi Xin Technology，详细信息请参考英国原厂官方网站。

供应商：溢鑫科创科技集团

英国Cressington是业内最知名的电镜和电子探针配套的高性能真空镀膜仪供应商，也是此类仪器配套方案的先驱者。自从上世纪六十年代开始，伴随着商业扫描电镜的普及，Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用，并获得科研工作者的一致好评。208C High Vacuum Turbo CARBON COATER for TEM,FESEM透射专用分子泵超高真空镀碳仪 主要优势:超高真空条件下使用超纯的碳棒获得超高质量镀膜处理, 特别适合TEM(Cs), STEM 和高端场发射电镜系统;反馈控制可以得到均匀一致镀厚,电压控制的碳棒具有多次蒸发能力;可选择操作方法优化镀膜过程,繁忙条件下可进行自动蒸发控制; 超高分辨膜厚监测仪保证超高质量可重复的镀膜效果; 无油分子涡轮真空系统快速地使150mm样品室达到要求的真空度; 无须水冷却系统, 无须加热或冷却, 制样周期短, 操作方便。208C样品室: 样品室的组件设计方式可适应多种附件使用; 独特的标准化高/低真空压力调节通过精密针阀完成; 高真空用于最高质量地镀膜，如用于TEM制样; 低真空用于TEM栅网辉光放电清洁及扫描电镜观察中形貌复杂样品的镀膜; 旋转－倾斜台特别为TEM样品处理设计, 可放置25 x75mm的玻片或同时对多个样品进行移植镀膜处理。 备注：为保证销售渠道正规，配套方案先进及统一的市场管理和售后服务，英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理，中国官方授权总代为：溢鑫科创Yi Xin Technology，详细信息请参考英国原厂官方网址:

供应商：溢鑫科创科技集团

108C Carbon/A Auto CARBON COATER 电镜专用高真空镀碳仪 英国Cressington是业内最知名的电镜和电子探针配套的高性能真空镀膜仪供应商，也是此类仪器配套方案的先驱者。自从上世纪六十年代开始，伴随着商业扫描电镜的普及，Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用，并获得科研工作者的一致好评。Features优势说明：源自1973年英国先进的电镜配套镀膜工艺，60多年专业技术及全球5000名科研工作者的信赖； 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚为20nm左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状；108C中使用的高纯碳棒可以在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便进行电镜成像和能谱仪X射线EDS或EBSD分析； 使用新型的蒸发装置：电流和电压通过磁控头传感监控，蒸发源作为反馈回路一部分被控制，该蒸发装置使常规碳棒具有优良的镀膜稳定性和重现性； 自动模式下，蒸发源按程序设定进行镀膜，手动模式下，独特的设计允许以脉冲或连续方式操作，并通过旋钮控制输出电压 Specification技术规格： 样品仓尺寸 120 mm x 120mm, 高强度不锈钢结构 样品台 可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节 溅镀材料 Bradley 型高纯度碳棒, 无需削减或调整溅镀优点 基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护 模拟计量 真空Atm - 0.001mb,电流: 0 - 200A 控制方式 自动蒸镀控制，使用可编程电压控制和计时；可选择手动操作或自动控制数字计时 (0 30秒)，数字电压设定 (0.1 to 6.0V) 膜厚监控仪MTM-10高精度膜厚监控仪(选配) 工作电压220V, 50/60HZ 适用配套FEI, Phenom, Zeiss, JEOL, Hitachi, Tescan等扫描电镜系统 备注：为保证销售渠道正规，配套方案先进及统一的市场管理和售后服务，英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理，中国官方授权总代为：溢鑫科创Yi Xin Technology

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

一、产品应用：JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标：1.本系统装配了水冷却磁控靶，靶面直径为50mm2.主机规格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm4.真空样品室： 直径：160mm，高：120mm5.溅射面积： Ф50mm 6.真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar7.离子电流表： 最大电流：100mA8.定时器： 最长时间：3600S9.微型真空气阀： 可连接φ3mm软管10.可通入气体： 多种11.最高电压： -1600 DCV12.机械泵： 2L/S三、产品特点1.轻便、溅射面积大2.可以溅射铂、金及银等金属3.溅射效率高，可水冷降温

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10．真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点： 轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作

供应商：科睿技术发展有限公司

美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。

供应商：科睿技术发展有限公司

磁控溅射靶源

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS150R 镀膜仪新一代镀膜仪-EMS150R 型镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用最新技术研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！ 提供3个版本的仪器：l  EMS150R S-喷金仪/离子溅射仪（适用于真空喷镀非氧化型金属，如金，铂，钯等）l  EMS150R E-喷碳仪/碳蒸镀仪（适用于真空喷镀碳膜，特别适用于SEM，用碳丝或碳绳）l  EMS150R ES-真空镀膜仪（离子溅射仪和碳蒸镀仪的结合体） EMS150R是一款多功能紧凑型机械泵抽真空镀膜系统，对于SEM样品制备及其它镀膜应用非常理想。直径为165mm的腔室可容纳多种需要镀膜的样品，在SEM应用中提高成像质量。         EMS150R ES这个双重用途、结构紧凑、机械泵抽真空的镀膜系统可提供无与伦比的多用途镀膜,其标配有溅射插入头和碳丝蒸发插入头。快速、易更换的镀膜插入头，能在同一个紧凑设计中实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。注意，辉光放电选项限EMS150R S和EMS150R ES可用，它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。自动放气控制功能确保了溅射期间最佳的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜插入头，立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案，这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都具有快速、易更换及落入式设计的特点。 可预编程的镀膜参数及方案确保结果一致，具有可重复性。设计先进的碳蒸镀插入头操作简单,具有对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使EMS150R对于多用户实验室应用非常理想。可溅射一系列非氧化性金属，如金、银、铂和钯等等。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非常快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。 溅射靶材或碳蒸发源的选用： l  金：常规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果最好。l  银 ：高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。l  铂 ：在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优良的二次电子发射能力。l  钯：用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。 l  金/钯合金（80:20%）：通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高最终分辨率。l  碳丝蒸镀：碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。 l  碳棒蒸发：用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。