供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且有记忆功能，chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3. 

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且有记忆功能，chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3. 

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源，蒸发电流可控，确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选，用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程。

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

产品简介Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。产品特点1. 限真空度可达1x10-6mbar2. 新的LED状态指示灯3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000 。采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件 。可处理较厚或较大的样品(选配件) 。记忆功能可存储常用加工条件

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

英国Cressinglon 自动离子溅射仪 108AUTO 108AUTO 自动离子溅射仪，是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。 场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到zui小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

· 自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和zui佳的导电喷镀效果。 · 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 · 操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

该产品安全性高，触屏控制，过程参数可视，内置操作向导，操作简单方便。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自动控制电路控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

该产品自动真空控制，条件设置简单，可以实现快速抽真空（<2min），对样品进行镀膜处理，完成镀膜后可以自动卸载真空。同时，样品高度的调节也十分方便。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

VacCoat镀膜仪，可提供晶粒尺寸很细的高质量均匀薄膜，十分适用于高分辨率和高质量样品的表征。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的产品，它可以对不导电样品进行喷镀，使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

一、产品应用：JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标：1.本系统装配了水冷却磁控靶，靶面直径为50mm2.主机规格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm4.真空样品室： 直径：160mm，高：120mm5.溅射面积： Ф50mm 6.真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar7.离子

供应商：北京中科科仪股份有限公司

仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标： 玻璃处理室：∮100毫米，高度130毫米 试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系统：直联旋片真空泵2升/秒 真空检测：皮氏计 真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

供应商：北京裕隆时代科技有限公司

产品描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代公司精心设计制造，是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金镀膜系统，能够极为有效的提高电镜观测效果。产品特点： 操作简便，性能优越，质量稳定，功能丰富相比上一代产品，LJ-16小型离子溅射仪有大幅度的性能提升：◆换装新一代真空泵，大幅降低仪器噪音和废气污染◆配置高质量真空系统和微调阀，结合自动控制电路，预置真空和电流，无需反复调节。可自选所需电离气体（空气或氩气），以获得理想的镀膜效果。◆棱角成型工艺制成高强度玻璃室，防止轻易磕碰损坏和“崩边”。◆标配Φ58mm x

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 靶（上部电极）：直径：45mm，厚度：0.12mm - 真空样品室： 直径：160mm，高：120mm - 溅射面积： Ф45mm，三区域 - 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表：

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下： 1、靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm 2、真空样品室： 直径：160mm，高：120mm 3、溅射面积： Ф50mm，最大放置 4、真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表： 最大电流：50mA(100mA) 6、定时器： 最

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足jing准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；外观时尚小巧，机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。配置参数如下：仪器尺寸：480mmWx320mmDx240H工作腔室：硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH真空系统：涡轮分子泵，抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真空测量：采用复合真空计检测真空极限真空度：优于5X10-4Pa工作真空度：5X10-1Pa（溅射真空度手动调节）溅射工作气体：氩气工作电压：0-800V溅射电流：0-500mA电源：230V/

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配有高位定性的飞跃真空泵

供应商：深圳市科时达电子科技有限公司

库赛姆（COXEM）EM-30 Plus超高分辨率台式（桌面式）扫描电镜品牌： COXEM名称型号：EM-30 PLUS制造商： 韩国COXEM公司经销商：库赛姆中国产品简介：EM-30 Plus超高分辨率台式（桌面式）扫描电镜打破了传统台式扫描电镜采用BSD探测器成像的局限性，利用创新的双聚光镜成像技术，采用大型扫描电镜成像方式，使用二次电子探测器作为基础成像单元，从而，可以获得更高的分辨率（&

供应商：广州竞赢化工科技有限公司

特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩，具有溅射挡板保护溅射头。

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS150R 镀膜仪新一代镀膜仪-EMS150R 型镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用zui*技术 研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！ 提供3个版本的仪器：l  EMS150R S-喷金仪/离子溅射仪（适用于真空喷镀非氧化型金属，如金，铂，钯等）l  EMS150R E-喷碳仪/碳蒸镀仪（适用于真空喷镀碳膜，特别适用于SEM，用碳丝或碳绳）l  EMS150R ES-真空镀膜仪（离子溅射仪和碳蒸镀

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS150T 镀膜仪EMS150T镀膜仪的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间**的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。    EMS150T镀膜仪系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、ding级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻wan美的镀膜品质！

供应商：南京覃思科技有限公司

Q150R Plus主要操作参数： 离子溅射：溅射电流范围宽，至预设厚度（需选用FTM）终止或定时终止。超长的可设溅射时间，无需破真空，自动内置冷却占空比。 蒸镀：稳定的无杂波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳绳蒸镀的重复性。脉冲蒸发电流范围宽。 可视化状态指示： 大而多色的LED指示灯，使用户在一定距离就可轻松识别过程状态。 指示灯可显示以下状态： ◆ 初始化中 ◆ 程序运行 ◆ 空闲状态 ◆ 正在镀膜 ◆ 程序完成 ◆ 故障停机状态 程序完成后音频声音提示

供应商：合肥科晶材料技术有限公司

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W(包括真空泵）等离子源一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料）磁控溅射头一个2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体

供应商：合肥科晶材料技术有限公司

VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。技术参数结构（点击图片查看详细资料）输入电源220VAC50/60Hz,单相2000W(包括泵)溅射电源安装有两个溅射电源

供应商：合肥科晶材料技术有限公司

VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W(包括真空泵）等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）可选配300W射频电源（自动匹配）注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离

供应商：孚光精仪（香港）有限公司

这款非接触式掩膜对准机mask aligner 能够适合6英寸,8英寸，12英寸晶圆掩膜对准，是欧洲进口的高精度紫外曝光机. 非接触式掩膜对准机mask aligner全面满足科学研究，工艺级生产等多领域的应用。完全采用非接触式100%标定系统，对晶圆和掩膜没有伤害，大大提高间隙精度非接触式掩膜对准机mask aligner适合各种电子元器件，包括半导体，LED,LD,MEMS，传感器等。Alignment Scope Objectives separation