供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的产品，它可以对不导电样品进行喷镀，使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且有记忆功能，首chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3.      通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。 应用领域：离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源，蒸发电流可控，确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选，用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

产品简介Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，极限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。产品特点1. 极限真空度可达1x10-6mbar2. 新的LED状态指示灯3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录4. 新软件允许多用户界面设置5. 新的电容触摸屏设计

供应商：北京中科科仪股份有限公司

仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标： 玻璃处理室：∮100毫米，高度130毫米 试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系统：直联旋片真空泵2升/秒 真空检测：皮氏计 真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 靶（上部电极）：直径：45mm，厚度：0.12mm - 真空样品室： 直径：160mm，高：120mm - 溅射面积： Ф45mm，三区域 - 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表： 最大电流：50mA - 定时器： 最长时间：900S - 微型真空气阀： 可连接φ3mm软管 - 可通入气体： 多种 - 最高电压： -1600（-3000）DCV - 机械泵： 2L/S主要特点：特点：1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。配置参数如下：仪器尺寸：480mmWx320mmDx240H工作腔室：硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH真空系统：涡轮分子泵，抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真空测量：采用复合真空计检测真空极限真空度：优于5X10-4Pa工作真空度：5X10-1Pa（溅射真空度手动调节）溅射工作气体：氩气工作电压：0-800V溅射电流：0-500mA电源：230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培）靶材：D60-80mm多种弱磁靶选配项：气体质量流量计，冷水机，可根据用户要求进行功能改装

供应商：科睿设备有限公司

磁控溅射靶源

供应商：科睿设备有限公司

美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。

供应商：似空科学仪器（上海）有限公司

采用磁控型电极，zuida限度地减轻对样品的损坏。

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS150T 镀膜仪EMS150T镀膜仪的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间**的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。    EMS150T镀膜仪系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、ding级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻wan美的镀膜品质！ 根据不同的应用方向，EMS150T细分为三个型号：l  EMS150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。l  EMS150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。l  EMS150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等 触摸屏控制：EMS150T镀膜仪操作十分简单，直观的触摸屏，即使最不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。 镀膜插入头选项：l  具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头l  溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料，直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材，可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号）l  适用于3.05mm碳棒蒸发插入头l  适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济l  碳丝蒸发插入头l  金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号） 样品台选项：l  EMS150T镀膜仪具有各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。l  标准配置为旋转台, 直径为50mml  可预设倾斜角度的旋转台（可选）l  可变角度旋转行星台（可选）l  可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选）l  显微镜载玻片样品台（可选） 其它选项：l  用于高样品的加高腔室l  膜厚监测器（FTM）l  用于测量低和高真空的全范围真空计 特点和优点:l  金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空间l  精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用 l  涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 l  全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作 l  可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 l  与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 l  精细的厚度控制：使用膜厚监控选项 l  “智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 l  高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 l  蒸发电流波形控制 l  Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台） l  真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品l  镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）l  人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装 l  带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新 l  设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本 l  符合当前电器法规（CE认证） EMS150T仪器参数：仪器尺寸585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)重量 33.4KG工作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩触摸屏用户界面带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护工作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩​样品台转速为8-20rpm的旋转台真空系统涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器真空测量皮拉尼真空计作为标配极限真空度10-5mbar两级电源需求90-250V~50/60Hz   1400VA（ 包括旋转机械泵电压240V）气体溅射工作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）金属蒸发和光阑清洁头用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑碳蒸发稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳电流脉冲1-90安培溅射0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器溅射工作真空范围5*10-3到5*10-1mbar溅射靶材和碳耗材供应EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维

供应商：南京覃思科技有限公司

Q150R Plus主要操作参数： 离子溅射：溅射电流范围宽，至预设厚度（需选用FTM）终止或定时终止。超长的可设溅射时间，无需破真空，自动内置冷却占空比。 蒸镀：稳定的无杂波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳绳蒸镀的重复性。脉冲蒸发电流范围宽。 可视化状态指示： 大而多色的LED指示灯，使用户在一定距离就可轻松识别过程状态。 指示灯可显示以下状态： ◆ 初始化中 ◆ 程序运行 ◆ 空闲状态 ◆ 正在镀膜 ◆ 程序完成 ◆ 故障停机状态 程序完成后音频声音提示

供应商：北京驰奔仪器有限公司

DESK-V TSC型小型离子溅射仪，采用磁控溅射方式，广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用专利的阳极保护栅网，实现镀膜过程中样品表面保持常温状态，没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能，可选配蒸碳附件。主要功能：1、精细、超精细离子溅射导电膜制备；专业级金属膜层试验。2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点：1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样，抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。2、镀膜质量更高，可获得精细晶粒膜层，膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。3、对样品无热损伤的冷溅射。4、样品等离子刻蚀功能，一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。5、基于PLC的强大控制系统，全部触摸屏操作，可手动、半自动控制、全自动控制。6、真空高压互锁安全机制7、标准的操作软件，实时监控各部件状态，方便技术支持，节约用户费用。性能指标：标准配置样品室： φ150mm X 150mm(H) 不锈钢真空室，带观察窗靶： 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM（随机）φ50mmX0.1mm样品台： φ50mm 旋转样品台溅射电流： 0-100mA真空规： 皮拉尼+热电偶溅射气体： 氩气真空泵： 85L/Min 机械泵 Pfeiffer 70 lps涡轮分子泵 15分钟抽到5E-6Pa 极限真空。获得超高真空环境，提高镀膜质量选配膜厚监控： 石英晶体膜厚监控器样品台： φ75mm 旋转样品台 φ100mm旋转样品台（选此台，膜厚监控器无法安装） 旋转倾斜样品台 （选择此台，无法实现样品刻蚀功能）蒸碳附件： 碳棒或碳丝绳

供应商：北京驰奔仪器有限公司

【简介】 驰奔-E系列扫描电镜，高真空模式或高分辨模式，要求样品必须导电良好，否则样品表面荷电造成图像缺陷和分辨率恶化。对于非导电样品，表面导电膜层制备，最常使用溅射金属导电膜层。常用贵金属如Au、Pt、Au/Pd合金，获的细小晶粒的精细膜层。 驰奔GC系列离子溅射仪，可满足各种材料的溅射镀膜、各种扫描电镜额溅射镀膜。为客户提供正确解决方案。【特点】 ● 多种靶材可供可选 ● 两种普通直流和磁控溅射模式可选 ● 大型玻璃工作室，溅射过程中真空稳定，溅射电流稳定，溅射膜层均匀。 ● 可以实现冷溅射，无样品热损伤。 ● 可选择旋转样品台、可倾斜旋转台。确保极度粗糙表面，球形颗粒获得良好镀膜。【技术指标】真空样品室： 直径：160mm，高：120mm样品台及工作距离：高配旋转样品台，简配固定样品台，高度手动调节溅射面积： Ф50mm，最大放置真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar离子电流表： 最大电流：50mA/100mA高压：-1200V/ -3000V定时器： 最长时间：1~3600S真空度手动控制：微型真空气阀，可连接φ3mm软管可通入气体： 多种、机械泵： 2L/S （120L/min）

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000 。采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件 。可处理较厚或较大的样品(选配件) 。记忆功能可存储常用加工条件

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美TED PELLA 108AUTO 自动离子溅射仪，是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。 场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到zui小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

供应商：天泽智能科技发展（天津）有限责任公司

108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 描述 108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 主要特性 l 通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 l 操作容易快捷，控制的参数包括放气以及氩气换气控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪（选件）精确测定所镀膜的厚度。 l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。 可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10．真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点： 轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

一、产品应用：JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标：1.本系统装配了水冷却磁控靶，靶面直径为50mm2.主机规格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm4.真空样品室： 直径：160mm，高：120mm5.溅射面积： Ф50mm 6.真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar7.离子电流表： 最大电流：100mA8.定时器： 最长时间：3600S9.微型真空气阀： 可连接φ3mm软管10.可通入气体： 多种11.最高电压： -1600 DCV12.机械泵： 2L/S三、产品特点1.轻便、溅射面积大2.可以溅射铂、金及银等金属3.溅射效率高，可水冷降温

供应商：北京裕隆时代科技有限公司

产品描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代公司精心设计制造，是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金镀膜系统，能够极为有效的提高电镜观测效果。产品特点： 操作简便，性能优越，质量稳定，功能丰富相比上一代产品，LJ-16小型离子溅射仪有大幅度的性能提升：◆换装新一代真空泵，大幅降低仪器噪音。◆标配样品室真空表和溅射电流表，实时显示和监控仪器状态。◆特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象。◆配置溅射电流控制器和微型真空气阀。结合自动控制电路，轻松控制真空室压强、电离电流，并可任意选择所需电离气体，以获得**镀膜效果。◆标配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸纯金靶，溅射范围更大，可同时溅射6个样品，靶材使用时间更长。◆预设参数，一键操作即可完成溅射功能。工作状态喷镀效果应用案例：喷金前后图像对比样品为水泥，由于导电性不好，可以看到，（上图）喷金前5000倍的图像已经略显模糊。在相同的实验条件下，样品用LJ-16小型离子溅射仪喷金后，图像轻松放大45000倍（下图），并可见非常清晰的水泥晶体结构。可见LJ-16离子溅射仪能够极为有效的提高扫描电镜图像质量，为您的科研工作提供极大帮助。技术参数名称规格名称规格玻璃处理室内径Ф 115mm x 高度130mm真空保护20PA配有微量充气阀调节工作真空试样台尺寸内径Ф 40mm, 可同时放六个样品杯工作媒介气体空气或氩气，配有氩气专用进气和微量充气调节金靶尺寸Ф58mm X 0.12mm 定时开关控制溅射时间，范围为10～110S真空系统直联旋片真空泵 2L/秒可用靶材金靶，铂靶，镍靶真空检测皮氏计产品尺寸400mm X 500mm X 400mm（带玻璃罩）工作电源220 VAC 50Hz客户服务裕隆时代拥有一支涉及众多领域高素质的应用支持团队，向客户提供完整的实验室解决方案和良好的售后服务。我们承诺24小时内对客户需求做出反应。专业勤奋的销售队伍，随时为您提供咨询服务。经验丰富的专家队伍，为您答疑解惑，拓展您的应用领域，提升客户应用水平。勤勉敬业的售后团队，向您提供专业及时的售后服务，解决您的后顾之忧。裕隆时代，您**的选择！

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 仪器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） - 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H） - 靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H） - 样品台： 50mm (D) - 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar - 工作电压： 0-1600V (DC)可调 - 溅射电流： 0-50mA - 溅射定时： 1-9999S - 蒸碳电流 0-10A(AC) - 真空泵： 2升两级机械旋转泵（极限真空2×10-2mbar）主要特点：在 ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下： 1、靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm 2、真空样品室： 直径：160mm，高：120mm 3、溅射面积： Ф50mm，最大放置 4、真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表： 最大电流：50mA(100mA) 6、定时器： 最长时间：900S 7、微型真空气阀： 可连接φ3mm软管 8、可通入气体： 多种 9、最高电压： -1600（-3000）DCV 10、机械泵： 2L/S主要特点：特点： 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室 压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟 罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均 匀纯净。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足jing准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；外观时尚小巧，机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。

供应商：北京意力博通技术发展有限公司

ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配有高位定性的飞跃真空泵

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致，机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足极ng准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；膜厚均匀稳定；

供应商：海德创业（北京）生物科技有限公司

EMS150R 镀膜仪新一代镀膜仪-EMS150R 型镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用zui*技术 研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！ 提供3个版本的仪器：l  EMS150R S-喷金仪/离子溅射仪（适用于真空喷镀非氧化型金属，如金，铂，钯等）l  EMS150R E-喷碳仪/碳蒸镀仪（适用于真空喷镀碳膜，特别适用于SEM，用碳丝或碳绳）l  EMS150R ES-真空镀膜仪（离子溅射仪和碳蒸镀仪的结合体） EMS150R是一款多功能紧凑型机械泵抽真空镀膜系统，对于SEM样品制备及其它镀膜应用非常理想。直径为165mm的腔室可容纳多种需要镀膜的样品，在SEM应用中提高成像质量。         EMS150R ES这个双重用途、结构紧凑、机械泵抽真空的镀膜系统可提供无与伦比的多用途镀膜,其标配有溅射插入头和碳丝蒸发插入头。快速、易更换的镀膜插入头，能在同一个紧凑设计中实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。注意，辉光放电选项限EMS150R S和EMS150R ES可用，它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。自动放气控制功能确保了溅射期间**的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜插入头，立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案，这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都具有快速、易更换及落入式设计的特点。 可预编程的镀膜参数及方案确保结果一致，具有可重复性。设计先进的碳蒸镀插入头操作简单,具有对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使EMS150R对于多用户实验室应用非常理想。可溅射一系列非氧化性金属，如金、银、铂和钯等等。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非常快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。 溅射靶材或碳蒸发源的选用： l  金：常规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果**。l  银 ：高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。l  铂 ：在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优良的二次电子发射能力。l  钯：用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。 l  金/钯合金（80:20%）：通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高分辨率。l  碳丝蒸镀：碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。 l  碳棒蒸发：用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

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此款小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合SEM 制样必备的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空，在 20Pa 真空保护。同时，配有专用进气口和微量充气调节装置，以方便空气或氩气等工作气体充入。产品编号ZB-YQ1700产品名称小型离子溅射仪玻璃处理室Φ100mm、高度130mm试样台尺寸Φ40mm可同时放6个样品杯金靶尺寸Φ58mm真空系统直联旋片真空泵2L/S真空检测皮氏计真空保护20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作气体空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节

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仪器简介：HC-21离子溅射镀膜机是为普通扫描电镜设计的一款性能优越的经济型产品，可以溅射金，银，铜，铝等靶材。 技术参数：1.溅射系统 : 顶部电极发射系统 2. 工作真空度: ~10 -1 Pa (~10 -3 Torr) 3. 高压电源: DC 0 ~ 1.2 kV (连续可调) 4. 靶材: 57mm dia金靶盘 (标准) or碳 5. 真空监测: 皮拉尼真空计 6. 时间控制范围: 0.1sec, sec, min, hour 7. 离子流: Air / Ar / N 8.电源 : 220VAC, 单项 9. 外形尺寸(mm) : 300(H)X430(W)X320(D) ;玻璃样品室尺寸： 120(Dia)X110 (H) 10.重量 (kg) : 15主要特点：1.方便操作的自动真空系统 2. 高速镀膜减少敏感样品热损伤High speed coating for reduce heat damage to sensitive specimens. 3. 各种形貌的镀膜质量非常均匀All shapes, size coating uniformly 4. 集成化的设计.

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ETD-800型全自动离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。主机规格L307mm*W260mm*H260mm电源规格220V/50HZ110V60HZ可选靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真空样品室直径：160mm，高：120mm定时器最长时间：3600S机械泵2L/S

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ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。特点：1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果；3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；4.根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-900主机规格L360mm*W300mm*H380mm靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真空样品室直径：160mm，高：120mm溅射面积Ф50mm真空指示表最高真空度：≤4X10-2mbar离子电流表最大电流：50mA(100mA)定时器最长时间：3600S微型真空气阀可连接φ3mm软管可通入气体多种最高电压-1600DCV机械泵2L/S

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ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备，由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成，由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来，通过面板上的按键状态，经溅射机箱中的CPU判别操作项，以确定允许与否（具体操作见说明书）。设备使用简便，性能可靠，蒸发材料为碳绳，溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm×300mm×400mm（L×W×H）靶（上部电极）50mm×0.1mm（D×H）真空样品室硼硅酸盐玻璃160mm×110mm（D×H）样品台50mm(D)工作电压0-1200V(DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-3600S蒸碳电流0-50A(AC)真空泵2升机械旋转泵