供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且有记忆功能，chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3. 

供应商：北京中科科仪股份有限公司

仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标： 玻璃处理室：∮100毫米，高度130毫米 试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系统：直联旋片真空泵1升/秒 真空检测：皮氏计 真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

供应商：北京博远微纳科技有限公司

ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且有记忆功能，chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3. 

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源，蒸发电流可控，确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选，用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程。

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。单靶磁控溅射仪配备有一个靶枪，可选择强磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜，强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

适用于镀膜设备的配套使用不锈钢材质，需要根据客户的实验要求加工定制。

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。1、真空度高。 2、可制备多种薄膜，金属、半导体、绝缘体等，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 4、清理安装便捷。 5、控制可选一体化触摸屏控制 产品名称 GSL-CKJS-450-B1磁控溅射 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。1、真空度高。 2、可制备多种薄膜，金属、半导体、绝缘体等，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 4、清理安装便捷。 5、控制可选一体化触摸屏控制 产品名称 GSL-CKJS-450-B1磁控溅射 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作，用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该系统配置三个靶枪，一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头，用于各类靶材的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究薄膜电池、固态电解质及OLED等，与普通磁控溅射相比可以做Li靶材及锂基材料靶材的镀膜实验，是新能源

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD双靶磁控溅射仪配备有一个靶枪，可选择强磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜，强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、可选一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。1、配置三个靶枪，一个配套射频电源用

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300Å，特别适用于SEM样品表面的镀膜。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪体积小，操作

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理（直流二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理 气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。）设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备。GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。该设备

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为Ø50mm，加热温度达500℃。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材，不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台，能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜，适用于实验室制备复膜的样品。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制，操作方便直观。该机设备小巧，占用实验室空间少，操作简单，应用广泛。因此被广泛应用于各大高

供应商：日立科学仪器（北京）有限公司

产品简介Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。产品特点1. 限真空度可达1x10-6mbar2. 新的LED状态指示灯3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000 。采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件 。可处理较厚或较大的样品(选配件) 。记忆功能可存储常用加工条件

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。 场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到zui小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

· 自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和zui佳的导电喷镀效果。 · 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 · 操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

英国Cressinglon 自动离子溅射仪 108AUTO 108AUTO 自动离子溅射仪，是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

供应商：北京中科科仪股份有限公司

仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标： 玻璃处理室：∮100毫米，高度130毫米 试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系统：直联旋片真空泵1升/秒 真空检测：皮氏计 真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

该产品安全性高，触屏控制，过程参数可视，内置操作向导，操作简单方便。

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

Q150R PLUS 系列全自动真空镀膜仪Q150R Plus适用于钨灯丝/LaB6/部分场发射和台式SEM。通过Q150R E＆ES Plus碳绳镀膜可用于元素分析，Q150R S＆ES Plus可用贵金属靶材溅射镀膜。推荐放大倍数：◆Au、Au/Pd可达5万倍◆Pt（可选）可达10万倍推荐应用：◆中低倍放大倍数观察增强二次电子信号（1nm或更小）◆台式SEM镀膜◆元素分析（EDS）◆敷铜层研究Q150R Plus 功能特点：1）全新升级的用户界面：电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用用户界面软件全面更

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

1） 全新升级的用户界面：电容式触摸屏灵敏度高，更易触控使用 用户界面软件已广泛更新，使用现代智能手机界面技术 上下文相关的全面帮助页面 USB接口可轻松进行软件更新，也可将镀膜程序文件备份/复制到U盘 log文件可通过USB端口导出，文件格式为.csv,便于在Exce或类似软件中分析， log文件包括日期、时间和工作参数。 16GB的闪存可储存超过1000条镀膜程序；双核ARM处理器，可实现快速响应的显示。 2） 允许多用户输入和储存镀膜参数程序，新功能可根据近期的使用情况来排列每个用户的程序。 3） 智能逻辑系统自动识别插入头.并显示相应的操作设置和控制1c 4） 系统提示用户确认靶材，然后自动为该材料选择适当的参数。 5） 直观的软件允许生手或偶用者快速输入和存储其处理参数。为方便起见，系统已存储一些典型的溅射和镀碳程 序，也允许用户创建自己的操作程序。 6） 如果软件检测到在一段时间内无法达到一定真空，在真空泄漏的情况下会终止程序，以防真空泵过热。

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

RQC-2S全自动磁控离子溅射仪低气压下气体的辉光放电现象:Ø  靶材后有永磁铁Ø  靶材上施加电压为-400 ~ -600V，样品台接地Ø  绝大部分电子和负离子在电场和磁场的共同作用下，做螺旋线运动， 单个电子电离的气体分子大大多于直流，因此，在较好的真空、较  低的电压下即可获得较大的电流;Ø  在磁场在作用下，绝大部分电子和部分负离子落在靶材附近，无法 到达样品台，对样品基本没有热损伤工作特点:  溅射电流与

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

RQC-1S 离子溅射仪详细参数采用单片机作为处理器，具有自主知识产权，扩展性好;5 英寸触摸操作液晶显示屏，分辨率为 800×480，全数字显示。2.1 可设定:(1)溅射电流;(2)溅射时间;(3)屏幕亮度等参数;2.2 可显示:(1)溅射电流;(2)溅射剩余时间;(3)工作真空度;(4)靶材累 计使用时间;(5)设备累计使用时间等参数。溅射电流:3-30mA 连续可调，最小步长为 1mA;溅射时长:1-999s 连续可调，最小步长为 1s;工作真空:实时显示当前工作真空度，精度为 0.1Pa溅射靶材

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的产品，它可以对不导电样品进行喷镀，使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自动控制电路控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

该产品自动真空控制，条件设置简单，可以实现快速抽真空（<2min），对样品进行镀膜处理，完成镀膜后可以自动卸载真空。同时，样品高度的调节也十分方便。

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

VacCoat镀膜仪，可提供晶粒尺寸很细的高质量均匀薄膜，十分适用于高分辨率和高质量样品的表征。

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每

供应商：北京和同创业科技有限责任公司

一、产品应用：JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标：1.本系统装配了水冷却磁控靶，靶面直径为50mm2.主机规格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm4.真空样品室： 直径：160mm，高：120mm5.溅射面积： Ф50mm 6.真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar7.离子