NSC-3000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-3000带有12”派热克钟罩腔体,2个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,260 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-3000(M)磁控溅射系统产品特点:
不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃
70,250或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
选配项:
不锈钢腔体
RF、DC溅射
RF或DC偏压(1000V)
样品台可加热到700°C
膜厚监测仪
基片的RF射频等离子清洗
预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
应用:
晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
光学以及ITO涂覆
带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
带RF射频等离子放电的反应溅射
上传人:那诺—马斯特中国有限公司
大小:0 B
2031
报价:面议
已咨询855次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询896次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询790次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询700次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询1018次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询1410次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询1173次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询806次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询700次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询1018次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询855次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询790次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询1410次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询1173次磁控溅射系统
报价:面议
已咨询896次磁控溅射系统
LJ-16离子溅射仪是专用于扫描电镜(SEM)的样品喷金镀膜系统,能够极为有效的提高电镜观测效果。 操作简便,性能优越,质量稳定,功能丰富
108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 描述 108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 主要特性 l 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。 l 操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。 l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和ZJ的镀膜效果。 可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。
整体含溅射主机和真空系统组成,溅射靶头被设置成为一个二级溅射结构,通过均匀恒定的电场激发并电离气体分子,形成稳定的辉光放电现象,被电离的离子和电子在这个电场下进行加速,从而使靶原子逃离靶材表面在样品上面形成纳米涂层 配套世界主流扫描电子显微镜厂家: 热电(美国原荷兰)FEI钨丝阴极、场发射、飞纳台式等各类型电子显微镜,蔡司(德国)钨丝阴极、场发射各系列的扫描电子显微镜,JEOL(日本电子)各类电镜,日立(日本)各系列电镜、台式电镜,TESCAN泰斯肯(捷克)各系列电镜,还有如韩国“赛科”、COXEM库赛姆、MIRERO等电镜品牌及所有需要样品前期处理,提高成像质量、增强导电性能等表面镀膜处理的样品制备工作。
全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;
全自动真空离子溅射仪喷金仪 磁控溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;