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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-4000(ICPM)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-3000
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-3500
- 产地:美国
NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-4000(ICPA)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/se...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:PECVD
- 产地:美国
NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用25...
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PECVD等离子化学气相沉积系统技术资料
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PECVD 等离子增强化学气相沉积
PECVD 等离子增强化学气相沉积 产品样册
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PECVD 等离子增强化学气相沉积
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PECVD原理及应用
PECVD原理及应用 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition)是等离子增强化学气相淀积,该技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体...
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揭秘远程微波PECVD系统
Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积(PECVD)系统应用范围广泛,包含:基片或粉体的等离子诱导表面改性等离子清洗粉体或颗粒表面等离子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和...
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带你一文领略磁控溅射
主要功能:主要用于半导体应用,及各种需要进行微纳工艺溅射镀膜的情形。可以用于金属材料(金、银、铜、镍、铬等)的直流溅射、直流共溅射,绝缘材料(如陶瓷等)的射频溅射,以及反应溅射能力。基片可支持硅片,氧...
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Operation Theory of PECVD
In order to make the most effective use of your thin film deposition system; it is necessary to unde...
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PECVD原理及应用
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