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那诺—马斯特中国有限公司
主营产品:薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等

PECVD等离子化学气相沉积系统

 
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PECVD设备 NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-4000(ICPM)
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l...

plasma设备 NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-3000
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加...

PECVD镀膜设备 NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-3500
  • 产地:美国
  • NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势...

PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-4000(ICPA)
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/se...

CVD设备 微波等离子化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:PECVD
  • 产地:美国
  • NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用25...

PECVD等离子化学气相沉积系统技术资料
PECVD等离子化学气相沉积系统产品文章
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    PECVD原理及应用 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition)是等离子增强化学气相淀积,该技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体...

  • 揭秘远程微波PECVD系统

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