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兆声晶圆清洗技术应用
兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。兆声晶圆（掩...

发布：那诺—马斯特中国有限公司更新时间：2022-08-16 浏览次数：1939
等离子去胶机（刻蚀机）应用
全自动等离子去胶机（刻蚀机）：NANO-MASTER等离子刻蚀和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以...

发布：那诺—马斯特中国有限公司更新时间：2022-08-16 浏览次数：1977
ICP等离子刻蚀系统应用
全自动ICP等离子刻蚀系统：自动上下载片，带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，I...

发布：那诺—马斯特中国有限公司更新时间：2022-08-16 浏览次数：1897
ALD原子层沉积技术应用
ALD设备：ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会...

发布：那诺—马斯特中国有限公司更新时间：2022-08-16 浏览次数：1924
磁控溅射系统的行业应用
磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的...

发布：那诺—马斯特中国有限公司更新时间：2022-08-15 浏览次数：1945