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兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。


兆声晶圆(掩模版)清洗机应用:

  • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

  • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗

  • CMP处理后的晶圆片清洗

  • 晶圆框架上的切粒芯片清洗

  • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

  • 带保护膜的分划版清洗

  • 掩模版空白部位或接触部位清洗

  • X射线及极紫外掩模版清洗

  • 光学镜头清洗

  • ITO涂覆的显示面板清洗

  • 兆声辅助的剥离工艺


标签:晶圆清洗设备晶圆清洗机硅片清洗设备

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