等离子去胶机（刻蚀机）应用

全自动等离子去胶机（刻蚀机）：NANO-MASTER 等离子刻蚀和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。

全自动等离子去胶机（刻蚀机）应用：

• 有机物以及无机物的残留物去除

• 光刻胶剥离或灰化

• 去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用

• 清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架

• 提高黏附性，消除键合问题

• 塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能

• 产生亲水或疏水表面

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