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那诺—马斯特中国有限公司
主营产品:薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等

大基片清洗/去胶/湿法刻蚀

 
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晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:LSC-4000
  • 产地:美国
  • Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离。它是集成式的一体化系统,可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥...

晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:LSC-5000
  • 产地:美国
  • LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统:Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统为全自动机械手上下载片,可以在...

大基片清洗/去胶/湿法刻蚀解决方案
  • 兆声晶圆清洗技术应用

    兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。兆声晶圆(掩...

大基片清洗/去胶/湿法刻蚀产品文章
  • 兆声清洗技术原理、优势及应用

    1 兆声清洗技术背景Schwartzman等人,1993在SC1、SC2清洗时使用了兆频超声技术,获得前所未有的清洗效果,使得该方法在清洗工艺中被广泛采用,也引发了对超声波增强清洗效果的规律与机理的研...

  • 单片晶圆清洗机的详细资料概述

    单片晶圆清洗机是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。单片晶圆清洗机提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表...

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