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那诺—马斯特中国有限公司
主营产品:薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等
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那诺—马斯特中国有限公司

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ICP及DRIE刻蚀系统

 
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ICP刻蚀 NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀机 那诺-马斯特
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:NRE-4000(ICPM)
  • 产地:美洲 美国
  • NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀机:是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,...

RIE刻蚀 NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀 那诺-马斯特
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:NDR-4000(M)
  • 产地:美洲 美国
  • NDR-4000(M)DRIE深反应离子刻蚀:是带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的...

那诺-马斯特  NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:NRE-4000(ICPA)
  • 产地:美洲 美国
  • 自动上下载片,带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、I...

刻蚀设备 NDR-4000(A)全自动DRIE深反应离子刻蚀 那诺-马斯特
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:NDR-4000(A)
  • 产地:美洲 美国
  • 全自动上下载片,带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽...