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那诺—马斯特中国有限公司
主营产品:薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等

Deposition沉积系统

 
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磁控溅射镀膜机 NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NSC-3500(A)
  • 产地:美国
  • 立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过...

磁控溅射镀膜设备 NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NSC-4000(A)
  • 产地:美国
  • 立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr...

PECVD设备 NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-4000(ICPM)
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l...

蒸发镀膜设备 NTE-3500(A)全自动热蒸发系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NTE-3500(A)
  • 产地:美国
  • 1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-3500,NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术...

电子束蒸发镀膜机 NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NEE-4000(A)
  • 产地:美国
  • NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。...

磁控溅射系统 NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机 高校&科研专用
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NSC-3500
  • 产地:美国
  • NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟...

磁控溅射镀膜机 NSC-3500全自动磁控溅射系统 高校&科研专用
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NSC-3500
  • 产地:美国
  • NSC-3500全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内...

PVD真空镀膜机 NOC-4000光学镀膜设备 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NOC-4000
  • 产地:美国
  • NANO-MASTER NOC-4000光学镀膜设备提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支...

光学镀膜机 NOC-4000光学镀膜系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NOC-4000
  • 产地:美国
  • NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支...

PLD镀膜 NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPD-4000(A)
  • 产地:美国
  • 1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性; 2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀; 3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制; 4. 发展潜力巨大...

脉冲激光沉积 NPD-4000(M)PLD脉冲激光沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPD-4000(M)
  • 产地:美国
  • 1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性; 2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀; 3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制; 4. 发展潜力巨大...

plasma设备 NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-3000
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加...

PECVD镀膜设备 NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-3500
  • 产地:美国
  • NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势...

PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-4000(ICPA)
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/se...

CVD设备 微波等离子化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:PECVD
  • 产地:美国
  • NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用25...

磁控溅射设备 NSC-3500(M)磁控溅射系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NSC-3500(M)
  • 产地:美国
  • 带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基...

Deposition沉积系统解决方案
  • 磁控溅射系统的行业应用

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