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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3500(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-4000(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-4000(ICPM)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NTE-3500(A)
- 产地:美国
1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-3500,NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NEE-4000(A)
- 产地:美国
NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3500
- 产地:美国
NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3500
- 产地:美国
NSC-3500全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NOC-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER NOC-4000光学镀膜设备提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NOC-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPD-4000(A)
- 产地:美国
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性; 2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀; 3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制; 4. 发展潜力巨大...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPD-4000(M)
- 产地:美国
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性; 2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀; 3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制; 4. 发展潜力巨大...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-3000
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-3500
- 产地:美国
NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-4000(ICPA)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/se...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:PECVD
- 产地:美国
NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用25...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3500(M)
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基...
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Deposition沉积系统解决方案
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磁控溅射系统的行业应用
磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-...
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磁控溅射系统的行业应用
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Deposition沉积系统技术资料
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PECVD 等离子增强化学气相沉积
PECVD 等离子增强化学气相沉积 产品样册
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Therma Evaporation 热蒸发镀膜
Therma Evaporation 热蒸发镀膜 产品样册
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Sputter 磁控溅射镀膜
Sputter 磁控溅射镀膜 产品样册
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Optical Coating 光学涂覆
Optical Coating 光学涂覆 产品样册
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PECVD 等离子增强化学气相沉积
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Deposition沉积系统产品文章
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电子束蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜 一、电子束蒸发镀膜简述: 电子束蒸发镀膜(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种,与传统蒸镀方式不同,电子束蒸镀利用电...
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真空蒸发镀膜技术原理
&nbs...
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PECVD原理及应用
PECVD原理及应用 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition)是等离子增强化学气相淀积,该技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体...
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详解磁控溅射技术
一、磁控溅射的工作原理:磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。磁控溅射的工作原理是:在高真空的条件下充入适量的...
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电子束蒸发镀膜
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仪企号那诺—马斯特中国有限公司
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