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108进口离子溅射仪

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详细介绍

108 镀膜仪(离子溅射仪)


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108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

描述

108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

主要特性

l  通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。

l  操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。

l  可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)标准测定所镀膜的厚度。

l  数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和很好的镀膜效果。

可使用多种金属靶材:Au Au/Pd,Pt,Pt/PdAu靶为标配),靶材更换快速方便。

技术参数

 溅射系统

样品室大小

直径120mm x 120mm 

靶材

标配黄金Au靶,Pt等其它靶材可选

大小:直径57mm x 0.1mm

样品台

可以装载12SEM样品座,高度可调范围为50mm

溅射控制

微处理器控制,安全互锁

溅射电流

5~45mA可调

溅射头

低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩

计量表

真空: Atm 0.001mbar,电流:0~50mA

厚度监控
  (
选件)

使用MTM-10高分辨厚度监控仪(选件)标准测定所镀膜的厚度

控制方法

具有气体换气和泄气功能,带有“暂停”控制的数字定时器(5300s

真空系统

真空泵

2级直连式高速真空泵

抽气速率

3.0 m3/小时 ,真空度到 0.1mb所需时间30.

极限真空

5 x 10-3mba

桌上系统

真空泵可置于抗震台上,全金属集成耦合系统

 


产品优势
108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。
描述
108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。
主要特性
l 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。
l 操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。
l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。
l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和ZJ的镀膜效果。
可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。
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