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磁控溅射
- 品牌：沈阳科晶
- 型号： GSL-CKJS-560-B2
- 产地：沈阳
- 供应商报价： 面议
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沈阳科晶自动化设备有限公司
更新时间：2024-04-26 08:08:29 -
企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品磁控溅射镀膜(16件)
联系方式：吴女士024-23826163
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- 详细介绍
高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。
1、真空度高。
2、可制备多种薄膜，金属、半导体、绝缘体等，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
4、清理安装便捷。
5、控制可选一体化触摸屏控制
产品名称 GSL-CKJS-450-B1磁控溅射
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
2、电：AC380V 50Hz，必须有良好接地
3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备实验气体气瓶（自带Ø10mm双卡套接头）及减压阀
4、场地：设备尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上
5、通风装置：需要
主要参数
1、主溅射室尺寸：Ø560×355mm梨形真空室
2、主溅射室真空度：5×10-6Pa
3、进样室尺寸: Ø255×430mm
4、进样室真空度：5×10-4Pa
5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射频与直流溅射兼容（其中1个靶可溅射铁磁材料）
6、公转样品台6个工位，5个水冷工位，1个加热工位，加热工位ZG温度 600℃±1℃
7、样品尺寸：φ1″，可放置6片
8、基片可加-200V负偏压
9、进样室可一次性安装6片样品，可对被镀样品进行退火处理，退火温度 800℃±1℃
10、进样室可对基片进行反溅清洗
11、进样室和主溅射室之间通过磁力样品机构进行样品传递产品规格 整机尺寸：2700×900mm×2000mm。
标准配件 1、电源控制系统1套
2、真空获得系统1套
3、真空测量装置1套
