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单靶磁控溅射仪
- 品牌：沈阳科晶
- 型号： VTC-16-1HD
- 产地：沈阳
- 供应商报价： 面议
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沈阳科晶自动化设备有限公司
更新时间：2024-04-26 08:08:29 -
企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品磁控溅射镀膜(16件)
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- 详细介绍
VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。单靶磁控溅射仪配备有一个靶枪，可选择强磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜，强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、靶头在样品台正下方，脆性靶材安装更方便，样品不易被污染。
3、可制备多种薄膜，应用广泛。
4、体积小，操作简便。
产品名称 VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-16-1HD
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地
3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀
4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通风装置：需要主要参数
1、电源电压：220v 50Hz
2、功率：900W
3、腔体内径：φ164mm
4、极限真空度:9.0×10-4Pa
5、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（根据实际需要提升温度）
6、靶枪数量：1个（在真空室下方）
7、靶枪冷却方式:水冷
8、靶材尺寸：φ2〞，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
9、样品台：φ86mm
10、样品台:1rpm-20rpm内可调。
11、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。
12、开关盖方式：自动升降上盖。
13、工作气体:Ar等惰性气体。
进气气路：质量流量计进气，1-100SCCM可调。
产品规格 14、产品规格：
·尺寸：
主机尺寸：750mm×450mm×1020mm
真空室规格：φ164×172mm
·重量：100kg
标准配件 1直流电源控制系统1套
2射频电源控制系统1套
3分子泵（德国进口或者国产更大抽速）1台
4冷水机1台
5冷却水管（Ø6mm）2根
可选配件 1、金、铟、银、白金等各种靶材，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。
2、膜厚检测系统。
