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VTC-600G高真空磁控溅射仪
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。单靶磁控溅射仪配备有一个靶枪，可选择强磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜，强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、靶头在样品台正下方，脆性靶材安装更方便，样品不易被污染。
3、可制备多种薄膜，应用广泛。
4、体积小，操作简便。
| 产品名称 | VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪 | |
| 产品型号 | VTC-16-1HD | |
| 安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 | |
| 主要参数 | 1、电源电压：220v 50Hz 2、功率：900W 3、腔体内径：φ164mm 4、极限真空度:9.0×10-4Pa 5、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（根据实际需要提升温度） 6、靶枪数量：1个（在真空室下方） 7、靶枪冷却方式:水冷 8、靶材尺寸：φ2〞，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 9、样品台：φ86mm 10、样品台:1rpm-20rpm内可调。 11、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。 12、开关盖方式：自动升降上盖。 13、工作气体:Ar等惰性气体。 进气气路：质量流量计进气，1-100SCCM可调。 | |
| 产品规格 | 14、产品规格： | |
| 标准配件 | 1直流电源控制系统1套 2射频电源控制系统1套 3分子泵（德国进口或者国产更大抽速）1台 4冷水机1台 5冷却水管（Ø6mm）2根 | |
| 可选配件 | 1、金、铟、银、白金等各种靶材，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。 | |
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MSK-SFM-ALO是一款小型颚式破碎机，其动颚和定颚均有刚玉衬板，破碎腔两侧有刚玉陶瓷板，大大提高了设备的耐磨性，且对物料无污染。同时动颚和走颚的间隙可以调节。此设备可作为物料球磨的前机使用。
适用于脆性、容易解理晶体的精密切割。 采用金刚石线进行切割，切割质量优良。 采用铝型材结构，美观轻便。 增加亚克力外罩：安全防护功能。
STX-610金刚石线切割机是由我司自主研发的新一代精密切割设备，专为切割高硬度导电/非导电材料设计。本设备解决了电火花线切割机无法加工非导电材料的行业难题，可切割摩氏硬度低于金刚石线（9.5） 的各种金属、非金属材料以及易破碎的脆性材料。能够更好的适用于各行业实验及研发使用。本机可切割材料：陶瓷、晶体、玻璃、金属、地质试样、磁性材料、有机材料、热电材料、红外光学材料、复合材料以及生物医学材料等。
镶嵌压力、温度、时间可任意调整，随材质的不同变化 进料-镶嵌-加热-冷却-出样全自动化运行 出样定位精准，可搭配本公司全自动磨抛系统或其他自动化设备联动
包含定位载料盘、研磨抛光单元、清洗单元以及供料单元，可以实现从取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程，通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数，并能进行参数设定存档，并可一键启动
UNIPOL-1500M-16自动压力研磨抛光机主要用于材料研究领域。适用于金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、复合材料、有机高分子材料等材料样品的自动研磨抛
UNIPOL-1502AT自动精密研磨抛光机适用于各种材料的研磨与抛光，本机设置了Ø381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø110mm的平面。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若
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