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三靶磁控溅射仪
- 品牌：沈阳科晶
- 型号： VTC-600-3HD
- 产地：沈阳
- 供应商报价： 面议
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沈阳科晶自动化设备有限公司
更新时间：2024-04-26 08:08:29 -
企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品磁控溅射镀膜(16件)
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- 详细介绍
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
1、配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。
5、可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。
产品名称 VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-600-3HD
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地
3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀
4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通风装置：需要
主要参数
1、电源电压：220V 50Hz
2、总功率：＜2.5KW
3、腔体内径：Ø300mm
4、极限真空度：< E-6mbar（配合本公司设备使用可达到 E-5mbar）
5、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）
6、靶枪数量：3个
7、靶枪冷却方式：水冷
8、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
9、直流溅射功率：500W（可选）
10、射频溅射功率：300W/500W（可选）
11、载样台：Ø140mm，可根据客户需求选配加装偏压功能，以实现更高质量的镀膜。
12、载样台转速：1rpm-20rpm内可调
13、保护气体：Ar、N2等惰性气体
14、进气气路：质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM
产品规格 主机尺寸：500mm×560mm×660mm，
整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm；
重量：160kg
标准配件 1直流电源控制系统2套
2射频电源控制系统1套
3膜厚监测仪系统1套
4分子泵（德国进口或者国产更大抽速）1台
5冷水机1台
6聚酯PU管（Ø6mm）4m
可选配件 金、铟、银、铂等各种靶材
可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜
掩膜版
振动样品台
