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多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM
品牌:英国Moorfield
型号:nanoEM
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振动样品磁强计VSM
品牌:深圳科时达
型号:VSM
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三维磁场探针台
品牌:深圳科时达
型号:18
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磁控溅射系统
品牌:美国Nano-Master
型号:Sputter System
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外延科技 超高真空磁控溅射PVD
品牌:安徽外延科技
型号:PVD
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-2HD
- 产地:沈阳
1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜,应用广泛。 3、体积小,操作简便。
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磁控溅射镀膜机 NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3500(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-1RF-SPC
- 产地:沈阳
磁控溅射蒸发镀膜仪VTC-1RF-SPC是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统,包含射频电源、温控型蒸发镀膜模块、真空系统,水冷设备,磁控溅射靶头,不锈钢腔室等。
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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-3HD-1000
- 产地:沈阳
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-2HD
- 产地:沈阳
1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜,应用广泛。 3、体积小,操作简便。
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多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM
- 品牌:英国Moorfield
- 型号: nanoEM
- 产地:英国
多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台,满足各种高精度的喷金或电极生长需求。除了溅射金属电极外,nanoEM还具有极大的拓展空间,虽然作为台式设备,nanoEM配备了输出功率可达300W的溅射源,系统还可选择样品台旋转、样品倾斜、自动压强控制等多种功能。丰富的选件和配置可以满足学术研究的多种样品生长需求,可升级成为一台多功能的磁控溅射薄膜制备系统。
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DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: DENTON
- 产地:美国
DENTON 真空使创新成为可能,并已超过50年。全 球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全 球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。探索者提供了薄膜工业中最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。DENTON 薄膜沉积平台•R & D•批量生产•在线生产•蒸发•溅射•PE-CVD DENTO
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高真空蒸发器平台,Denton 热蒸发溅射仪 DV-502B
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: DV-502B
- 产地:美国
-快速循环次数 不到3分钟,dv - 502 b达到10 -⁴托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。 -强大的控制系统 PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。 安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。 -各种各样的金属 蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。
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徕卡 EM ACE200 低真空镀膜仪
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: ACE200
- 产地:厦门
Leica EM ACE200 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项,如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。理想重现的
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天泽智能 离子溅射仪 tzzn-100
- 品牌:天津天泽智能
- 型号: TZZN-100
- 产地:东丽区
型号:TZSC-100 注明:本型号为,非磁控,但是优于市面上其他品牌的,我们带链条,可以直接翻盖放样品 技术参数: 1. 真空腔室:Φ110mm,高度130mm, 2. 试样台尺寸:Φ60mm 3. 金靶尺寸:Φ57mm 4. 真空系统:抽速8m3/h 5. 真空检测:定制皮氏计,配合真空指针表,灵敏可靠; 6. 时间范围:0-999秒连续可调,LED数显。 7. 自动排放气,无需手动排气。 8. 工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量调节阀; 主要特点: 显示操作面为30°斜面,充分考虑操作的便捷和视觉体验,方便观察操作; 真空泵连接管路为金属波纹管,美观耐用; 微调阀调节灵敏准确,带有刻度标识; 真空泵抽速快,噪音低,适合实验室使用; 控制电路为控制板,工作稳定可靠; 结构简单可靠,布局合理,维修操作空间大;
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磁控溅射镀膜机 NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3500(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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三维磁场探针台
- 品牌:深圳科时达
- 型号: 18
- 产地:德国
磁场可以以三种模式被任意控制:固定的值, 线性扫描, 或者用户可以自定义。· Wafer size:10mm,可升到200mm· 磁场:方向任意三维大6kOe (0.6T)· 定向精度+/- 1.0· 在10mm直径范围内的均匀性+/- 2%· 稳定性优于0.1%· 频率范围:DC to ~ 67GHz· 分辨率:200mG· CHUNK: Isolated, grounded or coaxial.· 运动范围:100mm x 100mm· 集
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振动样品磁强计VSM
- 品牌:深圳科时达
- 型号: VSM
- 产地:德国
振动样品磁强计VSM• 振动头振动频率(校准):1-100Hz• VSM振荡幅度范围:0.1mm-5mm• 大样品直径:6mm• 适用于液体、粉末、块状样品测试• RMS 灵敏度5 × 10-7emu• 超高稳定性±0.05% 每天• 非常简单易用的高温炉/低温选件 2-1000k测试温度范围•&nb
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美国 磁控溅射镀膜机(Sputter)
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Sputter
- 产地:美国
美国 磁控溅射镀膜机(Sputter)腔体材料:不锈钢,铝,或者Bell Jar;分子泵:70,250,500 l/sec; 一级泵:机械泵或干泵;13.5MHz, 300-600W射频电源;1KW直流电源;QCM在线厚度测量,厚度分辨率<0.1nm;带有观察窗的门,方便样品取放;Labview软件,PC控制;多重密码保护;全安全互锁设计; 选配功能:向上,向下,侧向溅射;射频,直流、脉冲直流溅射;共溅射,反应溅射;组合溅射;射频、直流偏置(1000V);基底加热:不高于700摄氏度;
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外延科技 超高真空磁控溅射PVD
- 品牌:安徽外延科技
- 型号: PVD
- 产地:合肥
原子级平整:RMS<0.1nm 大面积:1英寸到8英寸 多模式:ON/Off Targets 超高真空:10-9 Torr 温度:RT-1000度
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磁控溅射镀膜设备 NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-4000(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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磁控溅射设备 NSC-3500(M)磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3500(M)
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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磁控溅射镀膜机 NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3000(A)
- 产地:美国
台式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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离子溅射仪 NSC-3000(M)磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3000(M)
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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NSC-1000磁控溅射系统 那诺-马斯特 磁控溅射镀膜厂家
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-1000
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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磁控溅射真空镀膜机 NSC-4000(M)磁控溅射系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-4000(M)
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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天泽智能 热蒸发镀碳仪 TZZN-1000C
- 品牌:天津天泽智能
- 型号: TZZN-1000C
- 产地:东丽区
型号:TZSC-1000C 注明:桌面型蒸镀碳层,减少因样品镀层对X射线能量谱仪做元素分析时的能量损失,可以选择蒸发碳绳和蒸发碳棒两种方式。 技术规格说明 样品仓尺寸:φ150mmX110mm 蒸发面积:约Φ140mm 最高真空度:≤4×10-2mbar 工作电压:220V,50HZ 蒸发输出:电压30V 蒸发靶材:碳棒、碳绳 蒸发最大电流:约100A 理想膜层的特点 1.良好的导热和导电性能。 2.不管样品的表面形貌如何,覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。 3.膜层对样品的化学成分干扰很小,对从样品中发射的X射线强度影响很弱。 4.这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能,相较于导电金属膜层的厚度普遍在10nm以上;可提供碳的镀层,在3-4nm分辨率尺度内不显示其几何形貌特点,避免引入不必要的人为图像,镀层精细均匀,适合非常粗糙的样品,高分辨研究。 5.可以喷碳(碳棒或碳绳),有利于对样品中非碳元素的能谱分析。 6.非导电样品观察背散射电子图像,进行EBSD分析,也应该喷碳处理。 主要用于扫描电镜 EDS 样品镀导电膜 ,仪器操作简单方便,是配合SEM 制样的仪器。
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离子溅射仪
- 品牌:天津天泽智能
- 型号: TZZN-1000
- 产地:东丽区
整体含溅射主机和真空系统组成,溅射靶头被设置成为一个二级溅射结构,通过均匀恒定的电场激发并电离气体分子,形成稳定的辉光放电现象,被电离的离子和电子在这个电场下进行加速,从而使靶原子逃离靶材表面在样品上面形成纳米涂层 配套世界主流扫描电子显微镜厂家: 热电(美国原荷兰)FEI钨丝阴极、场发射、飞纳台式等各类型电子显微镜,蔡司(德国)钨丝阴极、场发射各系列的扫描电子显微镜,JEOL(日本电子)各类电镜,日立(日本)各系列电镜、台式电镜,TESCAN泰斯肯(捷克)各系列电镜,还有如韩国“赛科”、COXEM库赛姆、MIRERO等电镜品牌及所有需要样品前期处理,提高成像质量、增强导电性能等表面镀膜处理的样品制备工作。
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磁控溅射系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: Sputter System
- 产地:美国
※ 主要应用于微电子、光电子、攻率器件、声表器件、射频 器件、先进封装(TSV)、MEMS、光学、材料研究等应 用中金属介质薄膜的沉积。 ※ 多靶直流/射频磁控溅射。※ 共焦溅射或垂直溅射可选。 ※ 上溅射或下溅射可选。 ※ 旋转工件台,可升级为射频偏压工件台。 ※ 最 大可处理直径12英寸工件盘。 ※ 选配工件台大角度倾斜功能。 ※ 选配离轴磁控溅射靶枪。 ※ 选配离子束刻蚀功能。
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瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 LV_SP-010磁控离子溅射镀膜仪
- 品牌:Safematic
- 型号: CCU-010 LV_SP-010
- 产地:瑞士
紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。 特点和优点✬高性能离子溅射✬独特的即插即用溅射模块✬yi流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品✬主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时
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瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 LV_CT-010热蒸发镀碳仪
- 品牌:Safematic
- 型号: CCU-010 LV_CT-010
- 产地:瑞士
紧凑型、模块化和智能化CCU-010 LV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,可选通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010系列镀膜仪标配膜厚监测装置。特点和优点✬高性能热蒸发镀碳和等离子处理✬专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬yi流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监控装置,可兼容不
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瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪
- 品牌:Safematic
- 型号: CCU-010 LV
- 产地:瑞士
紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬yi流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监
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瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪
- 品牌:Safematic
- 型号: CCU-010 HV_SP-010
- 产地:瑞士
紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_SP-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射镀膜仪,使用非常简便。采用独特的插入式设计,变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。标配FTM膜厚监测装置。特点和优点✬高性能离子溅射仪,可选等离子处理附件✬独特的即插即用溅射模块✬yi流的真空性能和快速抽真空✬标配隔膜泵和涡轮泵;全量程真空测量(皮拉尼,冷阴极真空计)✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品✬主动冷却的溅射头可确保镀
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瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV_CT-010高真空热蒸发镀碳仪
- 品牌:Safematic
- 型号: CCU-010 HV_CT-010
- 产地:瑞士
紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理(可选项)。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬高性能蒸发镀碳和可选等离子处理✬专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬yi流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品巧妙的真空设计
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瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV高真空离子溅射/镀碳一体化镀膜仪
- 品牌:Safematic
- 型号: CCU-010 HV
- 产地:瑞士
紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪,使用非常简便。采用du特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬高性能离子溅射、蒸发镀碳和可选的等离子处理✬专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬yi流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠
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小型溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
小实验室精密小型溅射仪器郑州科探KT-Z1650PVD,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
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江苏磐石小型磁控溅射镀膜机
- 品牌:江苏磐石
- 型号: PS-CK200
- 产地:徐州
PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑,占地面积小适合高校实验室及科研院所。
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磁控溅射系统 NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机 高校&科研专用
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3500
- 产地:美国
NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体,3个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
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磁控溅射镀膜机 NSC-3500全自动磁控溅射系统 高校&科研专用
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-3500
- 产地:美国
NSC-3500全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体,3个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
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科幂仪器 单蒸发皿程控镀膜仪
- 品牌:安徽科幂
- 型号: 单蒸发皿程控镀膜仪
- 产地:合肥
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备,较常规产品,该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃,较大可蒸镀直径50mm薄膜样品,可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
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磁控溅射器MC1000
- 品牌:日立
- 型号: MC1000
- 产地:日本
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm 特点: 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件 可处理较厚或较大的样品(选配件) 记忆功能可存储常用加工
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[公开招标]预算230万元 东华大学采购磁控溅射系统
东华大学 公开招标磁控溅射系统,项目编号:0773-2441SHHW0011
- 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
- 仪器网导购专场为您提供磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。
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