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微型高真空磁控溅射仪

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详细介绍

ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。

配置参数如下:

仪器尺寸:480mmWx320mmDx240H

工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH

真空系统:涡轮分子泵,抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器

真空测量:采用复合真空计检测真空

极限真空度:优于5X10-4Pa

工作真空度:5X10-1Pa(溅射真空度手动调节)

溅射工作气体:氩气

工作电压:0-800V

溅射电流:0-500mA

电源:230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培)

靶材:D60-80mm多种弱磁靶

选配项:气体质量流量计,冷水机,可根据用户要求进行功能改装


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