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Johnsen UltraVac超高真空系列产品
品牌:加拿大Johnsen Ultrava
型号:E-Beam Evaporation System
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荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统
品牌:荷兰TSST
型号:TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统
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脉冲激光沉积系统
品牌:美国PVD
型号:PLD-1000
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美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-18
品牌:美国Neocera
型号:P180,PEC-180
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Neocera 脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD
品牌:美国Neocera
型号:Pioneer 180-2-PL
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美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-18
- 品牌:美国Neocera
- 型号: P180,PEC-180
- 产地:美国
美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. PED 脉冲电子束沉积系统 PED-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近 1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取(烧灼)使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在良好条件下,靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。
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美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-18
- 品牌:美国Neocera
- 型号: P180,PEC-180
- 产地:美国
美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. PED 脉冲电子束沉积系统 PED-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近 1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取(烧灼)使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在良好条件下,靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。
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荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统
- 品牌:荷兰TSST
- 型号: TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统
- 产地:荷兰
荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统,脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。激光分子束外延系统(LMBE),是在PLD的基础上发展起来的外延薄膜生长技术。
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Neocera 脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD
- 品牌:美国Neocera
- 型号: Pioneer 180-2-PL
- 产地:美国
美国Neocera 脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
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Johnsen UltraVac超高真空系列产品
- 品牌:加拿大Johnsen Ultrava
- 型号: E-Beam Evaporation System
- 产地:加拿大
加拿大Johnsen Ultravac Inc.(JUV)公司成立于1961,以其优异的性能与表现在全球范围内赢得了良好的声誉,被誉为超高真空领域设备制造商中的“奥德赛”!多年来,JUV一直保持着极高标准,成功地将用户的要求转化为高 级的科研设备,同时也为科研、商业及工业等领域输出了大量的精密超高真空仪器。 JUV公司的核心是设计并制造超高真空腔体和系统,并已经成为全球超高真空产品的ding级供应商!从粒子加速线组件到超高真空线性传输设备、XYZ操作台和真
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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
- 品牌:美国BlueWave
- 型号: Physical Vapor Deposition Plus
- 产地:美国
•可集成热蒸发源或溅射源 •可旋转的耐氧化基片加热台
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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NSC-3000(A)
- 产地:美国
NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(ZG可加热到700度)功能,ZD到6"旋转平台,ZD可支持到3个偏轴平面磁控管。
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脉冲激光沉积系统
- 品牌:美国PVD
- 型号: PLD
- 产地:美国
※ 适用于沉积多种难以制备的薄膜,如高温超导薄膜、陶瓷 氧化物薄膜、多层金属薄膜等。 ※ 沉积速率高。 ※ 可以精密控制薄膜厚度和成分。 ※ 衬底温度要求低。 ※ 适用于各种靶材。 ※ 选配RHEED在线检测系统。
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脉冲激光沉积系统
- 品牌:美国PVD
- 型号: PLD-1000
- 产地:美国
PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。
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美国SVT 脉冲激光沉积设备/PLD
- 品牌:美国SVT Associates
- 型号: PLD-01/PLD-02
- 产地:美国
●SVT SMART(Scientific Materials and Applied Research Tool)脉冲激光沉积系统具有duyi无二的优越性。它可以把激光烧蚀技术和我们所拥有的其他沉积技术(如RF源)集成于一台设备上。可以生长各种可能的材料。●配有6个旋转靶台,实现多层薄膜结构生长。●可与准分子激光和Yag激光相连。●在线监控仪器做为可选件,为客户提供高质量的工艺信息反馈。●装载室不但可以装取样品,还可以与其他生长设备或分析设备相连。 应用●多元素复合氧化物●高温超导材料●磁性材料、金属材
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PED脉冲电子束沉积镀膜系统
- 品牌:美国Neocera
- 型号: PED-120
- 产地:美国
应用: Neocera公司的使命是为研究新型先进薄膜材料和器件的科学家和工程师提供服务。我们通过以下手段来实现此目标:发展在材料科学和器件工程方面的基础竞争力在薄膜制造方面,提供zuixianjin的脉冲电子束镀膜(PED)和脉冲激光镀膜(PLD)设备提供卓越的技术支持参与共同的研究与开发 Neocera公司是一家PED 和PLD设备的增值供应商。在PED 和PLD科学和技术的前沿方面,我们提供zuixianjin的解决方案;我们的设备和实际经验将帮助解决你们的问题。
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PLD激光沉积镀膜系统
- 品牌:美国Neocera
- 型号: Pioneer240,180, 120,80
- 产地:美国
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) 是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
- 品牌:美国Neocera
- 型号: Ion-Assisted PLD System
- 产地:美国
离子辅助PLD可以通过改变成核过程或生长动力学来创建氧化物或金属的界面。 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的 PLD 系统,该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System
- 品牌:美国Neocera
- 型号: Pioneer 180 PLD System
- 产地:美国
•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。 •使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。 •氧化膜沉积的氧相容性。 •升级:离子辅助PLD,组合型PLD,目标衬底负载锁定。 •其他沉积源:脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射,直流离子枪。 •与XPS /ARPES特高压集群工具集成,原位特高压晶片转移。 •原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。
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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
- 品牌:美国Neocera
- 型号: Large-Area PLD Systems
- 产地:美国
•全自动大尺寸PLD系统 •晶圆尺寸:4 "(100毫米),6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径 •外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积 •高温下氧化膜沉积的氧相容性 •自动激光扫描厚度均匀性
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PLD镀膜 NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPD-4000(A)
- 产地:美国
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性; 2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀; 3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制; 4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性; 5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
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脉冲激光沉积 NPD-4000(M)PLD脉冲激光沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPD-4000(M)
- 产地:美国
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性; 2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀; 3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制; 4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性; 5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
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Ulvac超高真空溅射系统
- 品牌:北京华测
- 型号: Ulvac
- 产地:海淀区
超高真空溅射系统主要用于溅射沉积Pd、Ti、Zr、Ta、Al、Cu、W、 NiFe、FeMn,、CoFeS等各种纳米级单层或多层纳米厚度膜(通常低于50nm)。
- 激光溅射沉积系统
- 仪器网导购专场为您提供激光溅射沉积系统功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选激光溅射沉积系统的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。