大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
产品简介
Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜，晶圆（wafer）直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用了独特的Neocera设计，当激光束扫描时，可以在目标上产生固定的激光通量(J/cm2)。当激光束通过目标表面扫描时，激光束扫描使用独特的扫描程序。激光位置在目标上的停留时间遵循逆速度程序，促进了薄膜厚度的良好控制。用户可以完全控制扫描参数的必要改变，厚度轮廓取决于沉积压力。
产品特点
•全自动大尺寸PLD系统
•晶圆尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径
•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积
•高温下氧化膜沉积的氧相容性
•自动激光扫描厚度均匀性
技术参数
1.衬底尺寸:(直径)4 " (100mm)，6 " (150mm)和8 " (200mn)
2.PLD腔室尺寸:18英寸直径球体或圆柱体。
3.衬底加热:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers)，700℃(8" wafers)
4.目标旋转: 直径4 × 2"
5.厚度均匀性: ±5%或更好。
6.工业气体: O2, N2, Ar， (MFC控制)
7.Loadlocks: 包括
8.自动化: Windows 7, LabView 2013
上传人：北京正通远恒科技有限公司
大小：0 B
2327
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。
脉冲激光沉积系统-PLD 型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有Z好的性能价比, 用户用Z少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。
脉冲激光沉积是一种真空镀膜技术。
基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术，以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术中，光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。除了光学吸收外，在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。
营业执照已审核
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