脉冲激光沉积系统（PLD）

简介

脉冲激光沉积（PLD）是用于薄膜沉积的通用工艺，其主要优点是将材料按化学计量从靶转移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的优秀原型设计和研究系统，可轻松获取新材料，特别是复杂氧化层。

PLD-Workstation将PLD系统的所有组件（包括激光和激光 气体供应）集成到一个框架中。紧凑的设计使系统的使用灵活，并避免了许多硬件安装工作，即使对于没有PLD技术经验的用户，也可以使用PLD设备！

全封闭激光束线，外部驱动镜调节，可安全地防止紫外线激光辐射；

激光和激光 气柜连接到外部排气管。

二、功能

技术特点

一体化解决方案，用于快速“即插即用”安装

先进的过程自动化，也适用于超晶格沉积

耐氧衬底加热器，具有1000°C的高温测量功能

可任选地提供基板的激光加热

灵活的先进机械手，具有交叉污染屏蔽功能

为系统升级准备的真空室（RHEED，等离子源，OES / FTIR，...）

SURFACE Fluence Control选项，可获得100％可重复的结果

全封闭光束线，无忧无虑，安全操作

真空室：内置灵活性

真空室专为研究而设计。它具有适用于常见的原位分析工具或其他系统扩展的备用法兰：

光学分析方法：OES或FTIR

RHEED

质谱

额外的沉积或等离子体源

此外，两个窗口允许从两个不同角度和两个侧面观察沉积过程。主要工艺组件：靶材和基板操纵器。标准配置提供2“基板加热器和4×2”内置靶材操纵器。

为了调节工艺条件，用于将工艺气体供应到腔室中的两个质量流量控制器通道是标准的。它们可以自动控制过程气氛和压力。

激光束将在两个不同的入射角下撞击靶材的每个点，因此不影响烧蚀材料的化学计量。为了实现均匀的靶材沉积，可以使用两种不同的靶材运动模式：

切换：目标传送带以连续运动的方式来回移动，以便激光束在距目标中心的多种半径处轰击靶材。该模式易于设置，只需要知道靶材直径。

扫描：移动目标传送带，使激光束在靶材上“写入”定义的轨道。调整目标旋转速度和轨道间距以匹配激光光斑尺寸和重复率，实现了靶材的均匀沉积。

PLD-Lab：多个腔室，一个激光器

如果需要更多吞吐量，可以将多个PLD工作站组合到共享一个激光器的系统中。带有自动反射镜的扩展光束线然后将激光束引导到所需的PLD工作站室。激光服务器计算机基于需求自动控制激光器和光束线，并且PLD室中的沉积过程被延迟，直到激光器可用于特定腔室。

技术参数

激光： 相干COMPexPro 201F或205F，大脉冲能量0.7 J ；

波长： KrF 248nm

压力控制： 2个MFC通道，自动压力控制

基板加热器： 直径1“或2”，1000°C（根据要求可提供其他尺寸）或激光加热器

基材旋转： 0到50 rpm

靶材： 4×2“，目标旋转（0-50 rpm）和带轨道控制的位置，均匀沉积

控制系统： 基于PC的控制，集成TFT监视器

IT功能： LAN连接，SURFWARE支持软件

尺寸： 约2200×850×1600mm³

三、应用

约瑟夫结

PZT薄膜

金属及复杂金属氧化物