电子束曝光系统-纳腾Pharos 310电子束曝光系统
氮气发生器-TOUDENKI
电子束曝光系统-纳腾Pharos 310电子束曝光系统
扫描电子显微镜 shnti 电子显微镜
等离子清洗机 SHNTI YP-20等离子清洗机
离子溅射镀膜仪 SHNTI 镀膜仪
电子束曝光系统概述
电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺 ， 是光刻工艺的延伸应用 。 电子束曝光系统是实现电子束曝光 技术的硬件平台，系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等参数。
公司完成了电子束曝光工艺和设备核心部件的技术突破，率先在中国推出自主创新、品质可控、性能优异的电子束曝光系统整机设备 ：Pharos 310。电子束曝光系统中多项关键技术指标达到国际一流水平 ， 实现了电子曝光设备系统国产替代、自主可控的发展目标，产品成为实验室条件下进行亚微米至纳米级别光刻技术研发的利器。
电子束曝光系统的构成
应用案例
主要技术规格
电 子 光 学 参 数 |
电子发射源：采用肖特基发射源，使用寿命不低于1500小时 |
加速电压：200 eV-30 keV |
电子束束流：10pA-200nA |
电子束束斑尺寸：≤3.0nm@30keV |
写场速度：最高可达到20MHz pixel frequency |
最大写场尺寸：500μmx500μm |
分辨率(最小线宽):20nm* |
拼接精度：≤±50nm(mean+3o) |
套刻精度：≤±50nm(mean+3o) |
样品台移动范围：100mm |
可加工样品的最大尺寸：4英寸晶圆 |
标准配置 |
采用激光干涉仪定位样品台 |
由送样开始至样品室真空达到可以工作的时间不多于10分钟 |
采用自动进样系统，进样过程中无需人为干涉，配置有光学导航系统 |
采用Windows操控系统，在硬件允许的情况下，终身免费升级 |
提供UPS不间断电源(一台) |
具备主动及被动减震系统，保证电子束曝光系统的整体稳定性。 |
*工艺：加速电压30keV; 光刻胶PMMA 950K A2; 光刻胶厚度60 nm
报价：面议
已咨询216次刻蚀设备
报价：面议
已咨询237次沉积设备
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已咨询237次沉积设备
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已咨询522次聚焦离子束电子束双束显微镜 DB550
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已咨询2174次薄膜半导体材料制备系统
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已咨询1083次美国 OAI
报价：面议
已咨询171次德国 Raith
将传统玻片数字化，进行存储与管理，可建立数字切片库，便于培训、分析、管理等，脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术，广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入，通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机（Pharos系列产品）， 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势， 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域， 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD，PEALD，与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性，但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发，表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径：每根针经过质检； 较小探针差异：较为特加工工艺实现精准控制
营业执照已审核
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